[实用新型]一种用于双面数字化曝光的基材平整装置

说明书

本实用新型公开了一种用于双面数字化曝光的基材平整装置，其包括：固定机构、悬浮辅助支撑机构，所述固定机构用于对基材进行初步定位；所述悬浮辅助支撑机构包括涡流组件、磁性组件，所述涡流组件与所述磁性组件相互作用而施加垂直于所述基材表面的支撑力。本实用新型通过固定机构对基材进行初步定位，防止基材相对固定机构运动，然后在基材的竖直方向上通过悬浮辅助支撑机构对其进行非接触式支撑，这样就提高了基材表面的平整度，从而有效地保证了基材曝光面与曝光镜头焦平面的一致性，大大提高了曝光图形解析度和对位精度等核心指标；此外，该基材平整装置还具有结构简单、易于加工、成本低等优点。

技术领域

本实用新型涉及数字化光刻领域，特别涉及一种用于双面数字化曝光的基材平整装置。

背景技术

激光直接成像技术是指直接通过CAM工作站输出的数据，驱动激光成像装置，在涂有光致抗蚀剂的基材上进行图形曝光。而基材的平面度对曝光图形的质量至关重要，具体表现在：基材平面度的下降，会使基材脱离曝光镜头的焦平面，从而降低了曝光图形的解析度、对位精度等指标，导致曝光不良。尤其在双面曝光激光直接成像设备中，基材的双面需要同时进行曝光，为不遮挡光路，常用的做法是对基材采取两端拉紧或支撑的方式。但是，基材并不是理想的刚性结构，如印制电路板，在重力的作用下，基材的中部会下沉，下沉的幅度取决于其自身的重量、刚性度和两端拉紧的张力。越长越软的基材，为保证基材在焦平面的有效范围内，所需的拉紧张力往往超过了设备的极限。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出了一种用于双面数字化曝光的基材平整装置，实现对进行曝光的基材进行非接触式支撑。

根据本实用新型实施例的一种用于双面数字化曝光的基材平整装置，其包括：固定机构、悬浮辅助支撑机构，所述固定机构用于对基材进行初步定位；所述悬浮辅助支撑机构包括涡流组件、磁性组件，所述涡流组件与所述磁性组件相互作用而施加垂直于所述基材表面的支撑力。

根据本实用新型上述实施例的用于双面数字化曝光的基材平整装置，至少具有如下有益效果：首先通过固定机构对基材进行初步定位，防止基材相对固定机构运动，然后在基材的竖直方向上通过悬浮辅助支撑机构对其进行非接触式支撑，这样就提高了基材表面的平整度，从而有效地保证了基材曝光面与曝光镜头焦平面的一致性，大大提高了曝光图形解析度和对位精度等核心指标；此外，该基材平整装置还具有结构简单、易于加工、成本低等优点。

根据本实用新型的一些实施例，所述固定机构包括拉紧机构和/或支撑机构。

根据本实用新型的一些实施例，所述用于双面数字化曝光的基材平整装置还包括检测反馈机构，用于检测所述基材表面的平整度以及根据所述平整度调整所述支撑力的大小。

根据本实用新型的一些实施例，所述涡流组件包括设置在所述基材上且位于曝光区域外围的涡流线圈、与所述涡流线圈连接的输入触点，所述涡流线圈沿所述基材中心对称分布，所述输入触点与所述检测反馈机构电性连接，所述磁性组件设置在所述基材中心的正上方和/或正下方。

根据本实用新型的一些实施例，所述涡流线圈通过空间投影成像无掩模光刻技术制造成形。

根据本实用新型的一些实施例，所述涡流线圈通过FPC制备工艺制造成形。

根据本实用新型的一些实施例，所述涡流线圈通过热压印技术组装而成。

根据本实用新型的一些实施例，所述磁性组件包括设置在所述基材上且位于曝光区域外围的永磁体和/或电磁体，所述永磁体和/或电磁体产生的磁场沿所述基材中心对称分布，所述涡流组件设置在所述基材中心的正上方和/或正下方，所述涡流组件与所述检测反馈机构电性连接。