[实用新型]一种方便填料的气相沉积炉有效
申请号: | 202023266450.5 | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN213925006U | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 武晓军;晏波;刘昊亮;陈浩纯 | 申请(专利权)人: | 江西昊军智能装备有限公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00 |
代理公司: | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人: | 陈娟 |
地址: | 333000 江西省景*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 方便 填料 沉积 | ||
一种方便填料的气相沉积炉,包括平台底座、真空炉、安装架及真空系统,平台底座的中部开设有一个滑轨,滑轨上设有一个可沿滑轨滑动的轨道车,安装架包括支撑杆及安装平台,支撑杆分别安装于滑轨的两侧,安装平台固定安装于滑轨两侧的支撑杆之间,真空炉固定安装于安装平台上,真空炉包括炉筒、上炉盖及下炉盖,炉筒对齐滑轨垂直安装于安装平台上,上炉盖可拆卸地密封安装于炉筒的上端开口上,轨道车的上端设有一个升降台,下炉盖沿其周向开设有数个安装孔,下炉盖可通过安装孔密封封堵于炉筒的下端开口上,真空系统与真空炉通过管路连接。本实用新型结构设计合理,填料方便,效率高。
技术领域
本实用新型涉及气相沉积炉技术领域,具体为一种方便填料的气相沉积炉。
背景技术
化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。气相沉积炉的工作原理是将沉积源引入沉积炉内,然后加热到一定工艺温度,在真空泵抽气系统产生的引力作用下,将沉积源引至沉积室,然后加热到一定工艺温度,使沉积源沉积在沉积室内的工件上,从而在工件上产生一层沉积源膜。由于气相沉积炉一般体积较大,一般采用大型的支撑结构安装于厂房内,因此在对气相沉积炉进行填料时一般需要大型的器械辅助完成,操作复杂且成本较高。
实用新型内容
本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种方便填料的气相沉积炉,解决了现有技术中由于气相沉积炉一般体积较大,一般采用大型的支撑结构安装于厂房内,因此在对气相沉积炉进行填料时一般需要大型的器械辅助完成,操作复杂且成本较高的问题。
为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案为:
一种方便填料的气相沉积炉,包括平台底座、真空炉、安装架及真空系统,所述平台底座的中部开设有一个滑轨,所述滑轨上设有一个可沿所述滑轨滑动的轨道车,所述安装架包括支撑杆及安装平台,所述支撑杆分别安装于所述滑轨的两侧,所述安装平台固定安装于滑轨两侧的支撑杆之间,所述真空炉固定安装于所述安装平台上,所述真空炉包括炉筒、上炉盖及下炉盖,所述炉筒对齐所述滑轨垂直安装于所述安装平台上,所述上炉盖可拆卸地密封安装于所述炉筒的上端开口上,所述轨道车的上端设有一个升降台,所述下炉盖可放置于所述升降台上,所述下炉盖沿其周向开设有数个安装孔,所述下炉盖可通过所述安装孔密封封堵于所述炉筒的下端开口上,所述真空系统与真空炉通过管路连接。
进一步地,所述真空系统包括真空泵、过滤罐、冷凝罐及真空管,所述真空泵与所述真空炉通过真空管连通,所述过滤罐及冷凝罐依次设置于所述真空管上,所述真空泵与过滤罐之间的真空管上设有气动阀及调节阀。
进一步地,所述炉筒的底部均匀设置有数个安装支架,所述真空炉通过所述安装支架固定安装于所述安装平台上。
进一步地,所述升降台可通过外接驱动装置,所述驱动装置可驱动所述升降台沿竖直方向进行升降。
进一步地,所述驱动装置可以为驱动气缸或者驱动电机中的一种。
本实用新型结构简单,设计合理,使用方便,可快速完成真空炉内的填料。当需要对真空炉内进行填料时,可通过将下炉盖通过紧固结构固定放置于轨道车上的升降台上,然后再将料罐对齐放置于下炉盖上,然后再通过沿滑轨将轨道车驱动至需要填料的真空炉的正下方,接下来在通过升降台的外接驱动装置,驱动升降台竖直上升,直至下炉盖上的安装孔对齐炉筒上的安装位置,然后再通过炉筒向炉筒与下炉盖之间打入螺钉,从而完成下炉盖在炉筒下端开口上的安装,所述下炉盖与所述炉筒之间可通过密封圈或者其他密封结构进行密封,然后再将下炉盖与升降台之间的紧固结构松开,再降低所述升降台,轨道车沿滑轨回到原位,即可完成真空炉的填料,无需借助其他吊装设备,制造成本低,可快速完成真空炉内的填料,提高了工作效率。
附图说明
图1为本实用新型装置的结构示意图;
图2为本实用新型装置的俯视图;
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的