[实用新型]一种集束式匀胶显影设备有效
申请号: | 202023292417.X | 申请日: | 2020-12-30 |
公开(公告)号: | CN213843757U | 公开(公告)日: | 2021-07-30 |
发明(设计)人: | 张军区;杜国强;董金良 | 申请(专利权)人: | 无锡环亚微电子有限公司 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30 |
代理公司: | 南京北辰联和知识产权代理有限公司 32350 | 代理人: | 王俊 |
地址: | 214000 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 集束 式匀胶 显影 设备 | ||
本实用新型属于集成电路制造光刻技术领域,具体公开了一种集束式匀胶显影设备,包括主体和喷管,所述主体的内部固定连接有显影舱,且显影舱的右侧水平安设有主泵,所述喷管位于主泵的右侧,且喷管的下方固定连接有淋头,所述淋头的下方安装有副转轮,且副转轮的前端安装有副辅轮,所述副辅轮的外壁套接有皮带,且皮带的内部活动连接有主转轮,所述主转轮的前端安装有主辅轮。该集束式匀胶显影设备,与现有的普通集束式匀胶显影设备相比,该装置内的相关设置可提高装置的进料效率,该设计替代了传统人工手动送料,提高装置生产效率该装置进料、显影、冲洗和烘干,四重结构相互配合一体化设置,使得装置的工作效率更高、安全性更高。
技术领域
本实用新型涉及半导体加工设备技术领域,具体为一种集束式匀胶显影设备。
背景技术
光刻胶是集成电路制造工艺中的一种关键材料,其过程主要包括涂布、烘烤、曝光、显影等步骤,光刻胶经过曝光后发生聚合或分解反应,然后采用化学显影液来溶解光刻胶,利用光照反应前后的光刻胶在显影液中的溶解速度的差异,经过一定时间使易溶解区域迅速溶解完全,而不易溶解区域的胶则保留于衬底表面,从而形成光刻图形。
现有的集束式匀胶显影设备,结构复杂,且装置的工作效率低下,降低了装置的实用性能,不能很好的满足人们的使用需求,针对上述情况,在现有的集束式匀胶显影设备基础上进行技术创新。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种集束式匀胶显影设备,以解决上述背景技术中提出一般的集束式匀胶显影设备,结构复杂,且装置的工作效率低下,降低了装置的实用性能,不能很好的满足人们的使用需求问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种集束式匀胶显影设备,包括主体和喷管,所述主体的内部固定连接有显影舱,且显影舱的右侧水平安设有主泵,所述喷管位于主泵的右侧,且喷管的下方固定连接有淋头,所述淋头的下方安装有副转轮,且副转轮的前端安装有副辅轮,所述副辅轮的外壁套接有皮带,且皮带的内部活动连接有主转轮,所述主转轮的前端安装有主辅轮,且主辅轮的外壁套接有转带,所述主辅轮的内部安装有转杆,所述主转轮的右侧垂直安设有冲洗舱,且冲洗舱的内部固定连接有水箱,所述水箱的左侧水平安设有副泵,且副泵的左侧固定连接有淋管,所述淋管的下方固定连接有喷头,所述冲洗舱的右侧垂直安设有烘干舱,且烘干舱的内部垂直安设有电机,所述电机的左右两侧均固定连接有安装架,且电机的下方活动连接有转轴,所述转轴的下方固定连接有转叶。
优选的,所述主泵的右侧与喷管的左侧之间紧密贴合,且淋头呈等距状分布于喷管的下表面。
优选的,所述副辅轮的中轴线与主转轮的中轴线相重合,且副辅轮通过皮带与主转轮构成带传动。
优选的,所述水箱的外部尺寸与冲洗舱的内部尺寸相吻合,且副泵呈水平状安置于冲洗舱的上表面。
优选的,所述淋管的右侧与副泵的左侧之间紧密贴合,且喷头呈等距状分布于淋管的下表面。
优选的,所述安装架呈对称状安置于电机的左右两侧,且电机通过转轴与转叶构成旋转结构。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:
1.本实用新型通过的设置有显影舱、主泵、喷管和淋头之间的相互配合设置,当装置需要对印板进行显印时,使用者启动主泵,主泵通过喷管将显影舱内的显影剂通过淋头,喷至印板之上,以此对印板进行显影工作,淋头设置有多个,可使显影剂喷洒的更加均匀,提高装置的工作效率;
2.本实用新型通过的设置有副转轮、副辅轮、皮带、主转轮、主辅轮、转带和转杆之间的相互配合设置,使用者启动内部电机,内部电机带动主转轮旋转,主准轮通过皮带和转带带动相关转轮旋转,将印板送入舱内,进行一系列显影工序,该设计提高装置的进料效率,替代了传统人工手动送料,提高装置生产效率;
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