[实用新型]一种磁流体一体式源挡板开闭机构

说明书

为了解决如何对淀积的继续控制成了当下需要解决的问题，本实用新型提出一种磁流体一体式源挡板开闭机构，对淀积的控制通过切换遮板的位置来完成，因而，蒸发在淀积开始之前将遮板移至坩埚上放，当加热细丝进行稳定的电子发射和蒸发时移除遮板，遮板的轴杆采用磁流体，轴杆位于连接在防着板上，轴杆的一端与遮板连接，另外一端通过联轴器与气缸连接，磁流体可以增加磁流体与防着板处的密封性，遮板和磁流体的配合可以防止源材料扩散至蒸镀机内部的其他部件上造成源材料的浪费，结构简单，自动化程度高。

技术领域

本实用新型涉及蒸镀机技术领域，较为具体的，涉及到一种磁流体一体式源挡板开闭机构。

背景技术

淀积方法用于将来自源的淀积材料传递到衬底以形成薄膜或涂层。在淀积方法中，一种最公知的蒸发技术是电子束蒸发，该技术也被称为e-束蒸发。淀积材料通常由金属、金属或非金属化合物组成，诸如金、银、镍铬合金或二氧化硅。通常，淀积材料被置于坩埚中，以及要被涂敷的衬底以距离坩埚固定距离或可变距离进行放置。电子束指向坩埚中的源材料，使得淀积材料从坩埚中蒸发出来并粘附到衬底上。该过程在真空室内进行。

通过将难熔金属丝加热至2000摄氏度以上的热电子发射方式来生成电子束。电子束被电磁场引向源材料。在实际操作中，通过开启/关闭加热电源来控制蒸发。可能需要几分钟来加热细丝以进行稳定的电子发射和蒸发。即使当加热电源关闭时，发射和蒸发也要保持特定的时间周期。从而，在快速脉冲模式中不能执行该操作，故而如何对淀积的继续控制成了当下需要解决的问题。

实用新型内容

有鉴于此，为了解决如何对淀积的继续控制成了当下需要解决的问题，本实用新型提出一种磁流体一体式源挡板开闭机构，对淀积的控制通过切换遮板的位置来完成，因而，蒸发在淀积开始之前将遮板移至坩埚上方，当加热细丝进行稳定的电子发射和蒸发时移除遮板，遮板的轴杆采用磁流体，轴杆位于连接在防着板上，轴杆的一端与遮板连接，另外一端通过联轴器与气缸连接，磁流体可以增加磁流体与防着板处的密封性，遮板和磁流体的配合可以防止源材料扩散至蒸镀机内部的其他部件上造成源材料的浪费，结构简单，自动化程度高。

一种磁流体一体式源挡板开闭机构，包括坩埚1、遮板2、轴杆6、联轴器11、气缸10和防着板9，防着板9位于蒸镀机内壁的底板上部，防着板9与底板设有间隙，防着板9上设有坩埚孔和装置孔，所述坩埚1位于间隙处且坩埚1的开口于坩埚孔套接，坩埚1的开口上方设有遮板2，所述遮板2与坩埚1的开口设有间隙，所述遮板2上部连接第一连杆3，第一连杆3通过连接件5可拆卸第二连杆4的一端，第二连杆4的另一端连接轴杆6的上部，其特征在于：所述轴杆6为磁流体，所述轴杆6的下部穿过装置孔连接联轴器11的上端，所述联轴器11的下端连接气缸10的气缸轴。

进一步的,气缸10为旋转气缸，气缸10内部设有角度限位器，气缸10通过角度限位器进行旋转。

进一步的,轴杆6外围设有一圈法兰盘12，法兰盘12与轴杆6套接，法兰盘12的一侧通过螺母或者螺栓与轴杆6连接。

进一步的,法兰盘12的上部设有密封圈13，所述法兰盘12的上部与装置孔连接，密封圈13起到密封作用。

进一步的,法兰盘12的下部设有多根支撑柱14，支撑柱14的一端与法兰盘12连接，支撑柱14的另一端与气缸连接，使得气缸可以与轴杆6连接。

进一步的,第一连杆3与遮板2通过螺母或者螺栓可拆卸连接。