[实用新型]一种用于晶圆的清洗机构有效

专利信息
申请号: 202023304149.9 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN214516376U 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 樊四虎;李强 申请(专利权)人: 天健九方(西安)毫米波设计研究院有限公司
主分类号: B08B3/04 分类号: B08B3/04;B08B13/00;F26B21/00;B01D46/00;B01D46/12;B01D53/02;H01L21/67
代理公司: 合肥东邦滋原专利代理事务所(普通合伙) 34155 代理人: 张海燕
地址: 710000 陕西省西安市高新区*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 清洗 机构
【权利要求书】:

1.一种用于晶圆的清洗机构,包括:设备壳体(1),所述设备壳体(1)内设有工作平台(2),工作平台(2)将设备壳体(1)分隔为设备腔和清洗腔,所述清洗腔内的工作平台(2)上设有若干清洗槽(3),其特征在于:所述清洗槽(3)通过清洗固定支架(9)安装在设备壳体(1)上,所述清洗腔后端的设备壳体(1)上设有热风烘干装置(6),所述热风烘干装置(6)通过管道连接于热风机,所述热风机与热风烘干装置(6)之间设有气体过滤装置(10),所述热风烘干装置(6)包括热风输送箱体(61),所述热风输送箱体(61)上端设有热风输入管(64),所述热风输入管(64)通过管道连接于热风机,所述热风输送箱体(61)下端设有热风排出箱体(62),所述热风排出箱体(62)靠近清洗槽(3)的一侧上设有烘干出风口,所述烘干出风口上设有防护栅格板(63),所述防护栅格板(63)通过固定螺栓安装在设备壳体(1)上,所述清洗腔顶部的设备壳体(1)上设有照明设备(4),所述设备壳体(1)底部设有行走轮(7),所述行走轮(7)一侧的设备壳体(1)上设有升降支撑垫脚(8)。

2.根据权利要求1所述的一种用于晶圆的清洗机构,其特征在于:所述清洗槽(3)包括清洗槽本体(31),所述清洗槽本体(31)内设有清洗提篮(32),所述清洗槽本体(31)内壁上设有若干支撑固定板(33),所述支撑固定板(33)上设有若干支撑固定卡槽,所述清洗槽本体(31)通过清洗槽支架(34)安装在清洗固定支架(9)上。

3.根据权利要求1或2所述的一种用于晶圆的清洗机构,其特征在于:所述气体过滤装置(10)包括过滤罐本体(101),所述过滤罐本体(101)一端设有进气口(102)、另一端上设有出气口(103),所述过滤罐本体(101)一侧设有活性炭注入口(107),过滤罐本体(101)另一侧设有两个活性炭更换排出口(109),所述活性炭注入口(107)与两个活性炭更换排出口(109)之间通过内金属网(1011)、外金属网(1012)分为左侧过滤面、右侧过滤面,所述左侧过滤面、右侧过滤面倾斜设置,左侧过滤面、右侧过滤面内填充有活性炭层(1013)。

4.根据权利要求3所述的一种用于晶圆的清洗机构,其特征在于:所述活性炭注入口(107)上设有注入口密封板(108),活性炭更换排出口(109)上设有排出口密封板(1010),进气口(102)、出气口(103)上设有过滤罐连接法兰(106)。

5.根据权利要求4所述的一种用于晶圆的清洗机构,其特征在于:所述过滤罐本体(101)的进气口(102)内设有初级滤网(105),初级滤网(105)可拆卸的安装在滤网支架(104)上,滤网支架(104)焊接固定在过滤罐本体(101)上。

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