[实用新型]一种用于旋涂设备的定位辅助装置

说明书

本实用新型公开了一种用于旋涂设备的定位辅助装置，包括升降式旋涂操作台，升降式旋涂操作台的上表面中部设有真空吸盘，且真空吸盘连接外部气泵，升降式旋涂操作台上设有保护罩，升降式旋涂操作台后侧设有安装底座，且安装底座前端固定装配有支撑杆，支撑杆前端固定装配有位于升降式旋涂操作台上方的定位辅助装置本体；方案采用定位辅助装置本体对基片进行准确定位，通过添加定位块的数量实现对不同尺寸的基片圆心位置的准确定位，提高了适用范围；方案采用的定位辅助装置本体操作方便，通过螺纹杆对增设的定位块进行连接固定，提高定位精度，利于胶层的均匀涂覆。

技术领域

本实用新型涉及定位辅助装置技术领域，具体为一种用于旋涂设备的定位辅助装置。

背景技术

纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。是通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。要想实现图形的精确复制和转移，首先要实现光刻胶在基片上的均匀涂覆。

目前最常用的涂胶方式是旋涂。市面上旋涂设备如匀胶机、旋涂仪层出不穷，但工作原理都是通过真空将基片固定在真空吸盘上，设置适当的加速度及转速，利用离心力使光刻胶在基片上均匀铺展。因此，基片圆心的准确定位尤为重要。一旦偏离圆心，就会出现胶层厚度不均匀或无法完全覆盖基片等问题影响压印效果。目前常用的定位辅助装置一般为单尺寸，定位不同尺寸的基片更换麻烦。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于旋涂设备的定位辅助装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于旋涂设备的定位辅助装置，包括升降式旋涂操作台，升降式旋涂操作台的上表面中部设有真空吸盘，且真空吸盘连接外部气泵，所述升降式旋涂操作台上设有保护罩，所述升降式旋涂操作台后侧设有安装底座，且安装底座前端固定装配有支撑杆，所述支撑杆前端固定装配有位于升降式旋涂操作台上方的定位辅助装置本体。

优选的，所述定位辅助装置本体包括固定装配于支撑杆前端的第一定位块，且第一定位块前后壁上开设有第一螺纹通孔，所述第一定位块内环面贴合有第二定位块，且第二定位块前后侧壁开设有与第一螺纹通孔位于一条直线上的第二螺纹通孔，所受第一螺纹通孔和第二螺纹通孔内螺接有螺纹杆。

优选的，所述第一定位块和第二定位块的圆心与真空吸盘的圆心重合。

优选的，所述定位辅助装置本体的高度高于保护罩升起的高度。

与现有技术相比，本方案设计了一种用于旋涂设备的定位辅助装置，具有下述有益效果：

(1)方案采用定位辅助装置本体对基片进行准确定位，通过添加定位块的数量实现对不同尺寸的基片圆心位置的准确定位，提高了适用范围。

(2)方案采用的定位辅助装置本体操作方便，通过螺纹杆对增设的定位块进行连接固定，提高定位精度，利于胶层的均匀涂覆。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型中第二定位块未添加结构示意图；

图3为本实用新型中第一定位块与螺纹杆装配结构示意图。

图中：1升降式旋涂操作台、2真空吸盘、3保护罩、4安装底座、5支撑杆、6定位辅助装置本体、61第一定位块、62第一螺纹通孔、63第二定位块、64第二螺纹通孔、65螺纹杆。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。