[实用新型]一种扫描式靶座及脉冲激光沉积装置

说明书

本实用新型适用于脉冲激光沉积技术领域，提供了一种扫描式靶座及脉冲激光沉积装置，包括：一个位移台、设置在所述位移台上的套筒、设置在所述套筒内的转轴、设置在所述转轴上的靶台、设置在所述位移台内的第一平移驱动装置、设置在所述位移台内的第二平移驱动装置、设置在所述位移台下一侧的支架、设置在所述位移台下的上下运动波纹管、上下运动电机、以及公转电机，所述公转电机一端固定在所述支架上，所述第一平移驱动装置和所述第二平移驱动装置垂直设置，所述公转电机与所述转轴传动连接。本实用新型通过水平扫描运动来提高了靶材的利用率，节约成本，结构简单，适用范围广。

技术领域

本实用新型属于脉冲激光沉积技术领域，尤其涉及一种扫描式靶座及脉冲激光沉积装置。

背景技术

脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition，PLD)，也被称为脉冲激光烧蚀(pulsedlaser ablation，PLA)，是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。现有的脉冲激光沉积技术利用聚焦的激光入射到靶材表面，从而溅射出材料沉积在基片上。由于脉冲激光沉积的光斑一般在2～4mm²，靶材的尺寸一般在一英寸，从而靶材的利用率过低，适用范围小。

实用新型内容

本实用新型提供一种扫描式靶座及脉冲激光沉积装置，旨在解决现有靶材利用率低的问题。

本实用新型是这样实现的，一种扫描式靶座，包括：一个位移台、设置在所述位移台上的套筒、设置在所述套筒内的转轴、设置在所述转轴上的靶台、设置在所述位移台内的第一平移驱动装置、设置在所述位移台内的第二平移驱动装置、设置在所述位移台下一侧的支架、设置在所述位移台下的上下运动波纹管、上下运动电机、以及公转电机，所述公转电机一端固定在所述支架上，所述第一平移驱动装置和所述第二平移驱动装置垂直设置，所述公转电机与所述转轴传动连接。

更进一步地，所述第一平移驱动装置为设置在所述位移台的X方向上的第一平移电机。

更进一步地，所述第二平移驱动装置为设置在所述位移台的Y方向上的第二平移电机。

更进一步地，所述公转电机的输出轴设置在所述上下运动波纹管内，并与所述位移台连接。

更进一步地，所述上下运动电机与所述支架连接，用于控制靶材的上下运动。

更进一步地，所述靶台上均匀分布有多个用于放置靶材的放置位。

更进一步地，所述套筒上还设有一法兰。

更进一步地，所述套筒内径大于所述转轴外径。

本实用新型还提供了一种脉冲激光沉积装置，包括：真空腔、设置在所述真空腔内的基片、用于发射脉冲激光到所述真空腔内的激光发射装置、以及上述的扫描式靶座，所述扫描式靶座的上端设置在所述真空腔内，并与所述基片对应设置，所述激光发射装置发射的激光到所述扫描式靶座上。

更进一步地，所述固定盘与所述真空腔的下端固定连接。

与现有技术相比，本实用新型所达到的有益效果：通过位移台上的第一平移驱动装置和第二平移驱动装置驱动转轴平移，由于转轴设置在套筒内，使得转轴可以在套筒内作水平运动来调节设置在所述转轴上的靶台移动，以使靶台上的靶材进行水平移动实现水平扫描，从而提高靶材的利用率。通过在位移台下设置的支架用于支撑固定公转电机，在所述位移台下的上下运动波纹管用于上下移动，由于所述公转电机与所述转轴传动连接，使得公转电机在公转时便于调节转轴旋转运动以使靶台进行旋转来切换靶材，使得可以切换不同的靶材。

附图说明

图1是本实用新型提供的一种扫描式靶座的结构示意图；

图2是本实用新型提供的一种扫描式靶座的正视图；