[实用新型]一种盘胚用纠偏机构及含有纠偏机构的清洗装置

权利要求书

1.一种盘胚用纠偏机构，其特征在于，包括2个纠偏盘、2个高度调节机构和距离调节机构；2个所述纠偏盘分别与2个第一电机连接，2个所述第一电机分别通过2个连接杆与2个所述高度调节机构连接进行所述纠偏盘的高度调节，2个所述高度调节机构与所述距离调节机构连接，通过所述距离调节机构同时调节2个所述纠偏盘的前后距离。

2.根据权利要求1所述的盘胚用纠偏机构，其特征在于，所述高度调节机构包括手轮、螺纹杆、一侧开口的直筒和螺纹套，所述螺纹杆设置在所述直筒的内部且所述螺纹杆的上端与所述直筒通过轴承连接，所述螺纹杆的上顶端与所述手轮连接，所述螺纹套与所述螺纹杆螺纹连接，所述螺纹套与所述连接杆固定连接，所述直筒的下端与所述距离调节机构连接。

3.根据权利要求1所述的盘胚用纠偏机构，其特征在于，所述距离调节机构包括第一气缸、第一滑块、第一滑轨和第一连接件，所述第一滑轨的一端上设有所述第一气缸，所述第一气缸与所述第一连接件连接，所述第一连接件的两端分别连接所述高度调节机构，所述第一连接件的下端面设有所述第一滑块，所述第一滑块与所述第一滑轨滑动连接。

4.一种含有如权利要求3所述的盘胚用纠偏机构的清洗装置，其特征在于，包括所述盘胚用纠偏机构，还包括清洗机构、上料机构、旋转平台、若干盘胚放置台、下料机构；靠近所述旋转平台的边缘逆时针依次设有所述上料机构、所述盘胚用纠偏机构、所述清洗机构、下料机构；若干所述盘胚放置台固定在所述旋转平台的边缘且其上端面放置有盘胚，所述第一滑轨上远离所述第一气缸的一端与所述旋转平台固定连接且不随着旋转，所述纠偏盘位于所述盘胚的下方且对所述盘胚进行纠偏作业；

其中，所述上料机构包括第一传送带、安装在所述第一传送带上的对位机构、吸取放置在所述第一传送带上的所述盘胚的第一吸盘机构和把所述盘胚翻转放置在所述盘胚放置台上的翻盘机构；所述清洗机构包括清洗轮、驱动所述清洗轮的第二电机、调节所述清洗轮与所述旋转平台距离的调节机构；所述下料机构包括第二传送带和第二吸盘机构。

5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述对位机构包括双向气缸，所述双向气缸的两端作业杆连接有对位杆，所述对位杆位于所述第一传送带的上方并对所述第一传送带上的所述盘胚进行对位。

6.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，所述对位杆的端部设有对位爪，所述对位爪的弧度与所述盘胚相同且其表面设有橡胶垫。

7.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述第一吸盘机构和所述第二吸盘机构都包括水平驱动机构、竖直驱动机构和第一吸取盘，所述竖直驱动机构连接于所述水平驱动机构的输出端，所述第一吸取盘连接于所述竖直驱动机构的输出端。

8.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述翻盘机构包括第二吸取盘、转动杆和旋转驱动机构，所述转动杆的一端连接有所述第二吸取盘，另一端与连接于所述旋转驱动机构的输出端。

9.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗机构还包括U型连接架，所述U型连接架的开口一端设有所述第二电机，所述第二电机连接有转动杆，所述转动杆与所述U型连接架开口的另一端转动连接且所述转动杆中设有所述清洗轮，所述清洗轮包括粗洗轮和细洗轮；所述调节机构包括第二气缸、第二滑块、第二滑轨和第二连接件，所述第二滑轨的一端固定在所述旋转平台上，另一端上设有所述第二气缸，所述第二气缸与所述第二连接件连接，所述第二连接件的两端连接有所述U型连接架，所述第二连接件的下端面设有所述第二滑块，所述第二滑块与所述第二滑轨滑动连接。

10.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗机构有两个且相邻设置。