[实用新型]一种盘胚用纠偏机构及含有纠偏机构的清洗装置有效

专利信息
申请号: 202023324149.5 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN215142558U 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 林奕强 申请(专利权)人: 广东金强艺陶瓷实业有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B1/02;B08B13/00;B65G47/22
代理公司: 广州浩泰知识产权代理有限公司 44476 代理人: 陈明月
地址: 515645 广东省潮州*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 盘胚用 纠偏 机构 含有 清洗 装置
【说明书】:

实用新型提供了一种盘胚用纠偏机构,包括2个纠偏盘、2个高度调节机构和距离调节机构;2个高度调节机构与距离调节机构连接,通过距离调节机构同时调节2个纠偏盘的前后距离;还提供一种含有纠偏机构的清洗装置,包括盘胚用纠偏机构,还包括清洗机构、上料机构、旋转平台、若干盘胚放置台、下料机构。通过高度调节机构和距离调节机构的作用,纠偏盘可在高度和与盘胚放置台的距离上进行调节,操作方便且精准对位、高质量纠偏作业;通过上料机构、旋转平台、盘胚用纠偏机构、清洗机构、下料机构等作业,全自动化的完成了对盘胚的清洗,生产效率高,清洗质量高。

技术领域

本实用新型涉及盘胚清洗技术领域,尤其是一种盘胚用纠偏机构及含有纠偏机构的清洗装置。

背景技术

陶瓷材料是用天然或合成化合物经过成形和高温烧结制成的一类无机非金属材料,具有高熔点、高硬度、高耐磨性、耐氧化等优点,因此以陶瓷材料为原料所制的陶瓷餐具需求量日益增加。

在陶瓷盘子生产过程中,对盘胚的清洗是一道必不可少的工序;如果人工清洗,既增加了劳动强度,还耗时,生产效率低;而设备对盘胚的清洗过程中,由于盘胚的摆放位置不统一等原因,使得盘胚清洗不全面或清洗不干净,这严重影响盘胚清洗抛光的质量,不利于高质量的盘子生产,因此,在设备对盘胚清洗时,摆正好盘胚的位置,对摆放位置不统一的盘胚进行纠偏及其重要。

实用新型内容

为了解决上述的问题,本实用新型提供了一种盘胚用纠偏机构及含有纠偏机构的清洗装置。

为了实现以上目的,本实用新型是通过如下技术方案来实现:

一是提供一种盘胚用纠偏机构,包括2个纠偏盘、2个高度调节机构和距离调节机构;2个所述纠偏盘分别与2个第一电机连接,2 个所述第一电机分别通过2个连接杆与2个所述高度调节机构连接进行所述纠偏盘的高度调节,2个所述高度调节机构与所述距离调节机构连接,通过所述距离调节机构同时调节2个所述纠偏盘的前后距离。

进一步的,所述高度调节机构包括手轮、螺纹杆、一侧开口的直筒和螺纹套,所述螺纹杆设置在所述直筒的内部且所述螺纹杆的上端与所述直筒通过轴承连接,所述螺纹杆的上顶端与所述手轮连接,所述螺纹套与所述螺纹杆螺纹连接,所述螺纹套与所述连接杆固定连接,所述直筒的下端与所述距离调节机构连接;通过转动所述手轮即可实现所述纠偏盘的高度调节,操作方便。

进一步的,所述距离调节机构包括第一气缸、第一滑块、第一滑轨和第一连接件,所述第一滑轨的一端上设有所述第一气缸,所述第一气缸与所述第一连接件连接,所述第一连接件的两端分别连接所述高度调节机构,所述第一连接件的下端面设有所述第一滑块,所述第一滑块与所述第一滑轨滑动连接;所述第一连接件是弧形杆,其弧度与所述旋转平台的弧度相同,便于所述纠偏盘对所述盘胚的纠偏作业;通过所述第一气缸即可同时调节两个所述纠偏盘与两个所述盘胚放置台的距离,操作方便,效率高。

二是提供一种含有所述盘胚用纠偏机构的清洗装置,包括所述盘胚用纠偏机构,还包括清洗机构、上料机构、旋转平台、若干盘胚放置台、下料机构;靠近所述旋转平台的边缘逆时针依次设有所述上料机构、所述纠偏盘、所述清洗机构、下料机构;若干所述盘胚放置台固定在所述旋转平台的边缘且其上端面放置有盘胚,第一滑轨上远离第一气缸的一端与所述旋转平台固定连接且不随着旋转,所述纠偏盘位于所述盘胚的下方且对所述盘胚进行纠偏作业;

其中,所述上料机构包括第一传送带、安装在所述第一传送带上的对位机构、吸取放置在所述第一传送带上的所述盘胚的第一吸盘机构和把所述盘胚翻转放置在所述盘胚放置台上的翻盘机构;所述清洗机构包括清洗轮、驱动所述清洗轮的第二电机、调节所述清洗轮与所述旋转平台距离的调节机构;所述下料机构包括第二传送带和第二吸盘机构。

进一步的,所述对位机构包括双向气缸,所述双向气缸的两端作业杆连接有对位杆,所述对位杆位于所述第一传送带的上方并对所述第一传送带上的所述盘胚进行对位;通过所述双向气缸使得所述第一传送带上方的所述对位杆同时对所述盘胚进行对位,快捷、精准对位。

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