[实用新型]芯片及激光器有效

专利信息
申请号: 202023340352.1 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN213989555U 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 杨彦伟;刘宏亮;邹颜 申请(专利权)人: 芯思杰技术(深圳)股份有限公司
主分类号: H01S5/223 分类号: H01S5/223;H01S5/343;H01S5/12
代理公司: 深圳智汇远见知识产权代理有限公司 44481 代理人: 艾青;牛悦涵
地址: 518000 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 芯片 激光器
【权利要求书】:

1.一种芯片,其特征在于,包括:

衬底,具有芯片区及波导区;

芯片层组,设置于所述衬底的芯片区;

波导条,与所述芯片层组间隔集成于所述衬底的波导区,用于引导出射激光的光斑大体呈圆形;

波导包层,沉积在所述波导条。

2.如权利要求1所述的芯片,其特征在于,所述波导条的横截面为正方形,所述波导条的横截面边长为0.5μm-2μm。

3.如权利要求1所述的芯片,其特征在于,所述波导包层的厚度为2μm-3μm,且所述波导条的折射率大于所述波导包层的折射率。

4.如权利要求3所述的芯片,其特征在于,所述波导包层为SiO2波导包层,所述波导条为InP波导条。

5.如权利要求1所述的芯片,其特征在于,所述波导条与所述芯片层组之间的间隙为1μm-5μm。

6.如权利要求1所述的芯片,其特征在于,在激光出射方向上,所述芯片区长度为150μm-300μm,所述波导区的长度为50μm-100μm。

7.如权利要求1所述的芯片,其特征在于,所述芯片层组包括依次层叠设置的缓冲层、下渐变缓冲层、量子阱层组、上渐变缓冲层、光栅层及腐蚀截止层。

8.如权利要求7所述的芯片,其特征在于,所述腐蚀截止层上依次加工有InP外延层及InGaAs接触外延层;

所述InP外延层的厚度为1μm-2μm,所述InGaAs接触外延层的厚度0.1μm-0.3μm。

9.如权利要求7所述的芯片,其特征在于,所述量子阱层组包括交错叠加生成的InAlAs量子阱层和InAlGaAs量子阱层。

10.一种激光器,其特征在于,安装有权利要求1-9任一所述的芯片。

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