[发明专利]用于四个堆叠层三维交叉点存储器的阵列和接触架构

权利要求书

1.一种用于三维存储单元的架构，包括：

多个平面且相互平行的位片区层，所述位片区层中的每个包括在位线方向上延伸的位线；

解码器，所述位片区层通过触点电连接到所述解码器；其中：

每个位片区层具有每解码器的片区比，所述每解码器的片区比被定义为所述位片区层中的位片区的总数与电连接到所述位片区层中的位片区的解码器的总数的比；并且

至少一个位片区层具有大于1：1的每解码器的片区比，

其中，所述多个位片区层包括：

第一层；

中间层，所述中间层比所述第一层更靠近所述解码器，并且具有大于所述第一层的每解码器的片区比；以及

外层，所述外层比所述中间层更靠近所述解码器，并且具有大于所述中间层的每解码器的片区比。

2.根据权利要求1所述的架构，其中，至少一个位片区层具有2：1的每解码器的片区比。

3.根据权利要求2所述的架构，其中，具有2：1的每解码器的片区比的所述至少一个位片区层包括与同一层中的另一个位片区电连接到同一解码器的位片区。

4.根据权利要求1所述的架构，其中，至少一个位片区层具有4：1的每解码器的片区比。

5.根据权利要求1所述的架构，其中，具有4：1的每解码器的片区比的所述至少一个位片区层包括与同一层中的另外三个位片区电连接到同一解码器的位片区。

6.根据权利要求1所述的架构，其中，所述多个位片区层还包括第二层，所述第二层比所述中间层和所述外层更远离所述解码器，并且具有与所述第一层相同的每解码器的片区比。

7.根据权利要求1所述的架构，其中，在所述位线方向上所述中间层中的所述位片区比所述第一层中的所述位 片区短，并且在所述位线方向上所述外层中的所述位片区比所述中间层中的所述位 片区短。