[发明专利]发光二极管在审
申请号: | 202080003000.0 | 申请日: | 2020-03-19 |
公开(公告)号: | CN112272870A | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 林素慧;黄禹杰;王锋;何安和;王庆;朱秀山;彭康伟;洪灵愿 | 申请(专利权)人: | 厦门三安光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38;H01L33/40;H01L33/44;H01L33/06;H01L33/30;H01L33/14 |
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地址: | 361100 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光二极管 | ||
1.发光二极管,包括半导体发光叠层、第一电极和第二电极,其中所述半导体发光叠层具有相对的第一表面、第二表面及连接该第一表面和第二表面的侧壁,包含第一导电型半导体层、有源层和第二导电型半导体层,所述第一电极电连接至所述第一导电型半导体层,所述第二电极电连接至所述第二导电型半导体层,其特征在于:所述第一电极和第二电极位于半导体发光叠层的第一表面之上,两者之间的间距为80μm以下,所述半导体发光叠层的侧壁覆盖有具有载流子俘获效应的绝缘层,所述绝缘层之上设置有钝化层,所述钝化层覆盖所述半导体发光叠层的侧壁及露出的第一表面、第一电极和第二电极的侧壁。
2.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于:所述绝缘层的材料选自Six1N、Six2ON、Six1N:P或者Six2ON:P,其中Six1N的Si组份的摩尔比X1为0.8~2,所述Six2ON的Si组份的摩尔质量比X2 为0.5~1.0。
3.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于:所述绝缘层的厚度为5~100nm。
4.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于:所述半导体发光叠层的第一表面包括电极区和发光区,所述绝缘层覆盖所述半导体发光叠层的发光区,其材料为Six1N,其中Six1N的Si组份的摩尔比X1为0.8~2。
5.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于:所述绝缘层还覆盖第一电极和第二电极的侧壁。
6.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于:所述半导体发光叠层的第一表面包括电极区和发光区,所述绝缘层还覆盖所述半导体发光叠层的发光区。
7.根据权利要求7所述的发光二极管,其特征在于:所述钝化层的厚度为200~1500nm。
8.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于:所述钝化层的厚度为100nm~1500nm。
9.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于:所述绝缘层和钝化层交替堆叠,对数为2~5。
10.根据权利要求9所述的发光二极管,其特征在于:所述钝化层的厚度为50~500nm。
11.根据权利要求9所述的发光二极管,其特征在于:该交替堆叠的绝缘层和钝化层的最外层为钝化层。
12.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于:所述钝化层的材料为SiO2或者Al2O3。
13.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于:所述绝缘层为Sia1N,所述钝化层为Sia2N,其中0.8a1≤2,0.6≤a2≤0.8。
14.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于:所述发光二极管的至少一个边长介于200~300μm或100~200μm或40~100μm。
15.根据权利要求1所述的发光二极管,其特征在于:所述有源层的水平截面积为30000~40000μm2,其发射的光线由所述第一表面射出,所述第一电极和第二电极之间的间距为60~80μm。
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