[发明专利]发光二极管在审

专利信息
申请号: 202080003000.0 申请日: 2020-03-19
公开(公告)号: CN112272870A 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 林素慧;黄禹杰;王锋;何安和;王庆;朱秀山;彭康伟;洪灵愿 申请(专利权)人: 厦门三安光电有限公司
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/40;H01L33/44;H01L33/06;H01L33/30;H01L33/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 361100 福建省厦门市*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光二极管
【说明书】:

发明提供了一种发光二极管。在一些实施中,该发光二极管包括半导体发光叠层、第一电极和第二电极,其中所述半导体发光叠层具有相对的第一表面、第二表面及连接该第一表面和第二表面的侧壁,包含第一导电型半导体层、有源层和第二导电型半导体层,所述第一电极电连接至所述第一导电型半导体层,所述第二电极电连接至所述第二导电型半导体层,其特征在于:所述第一电极和第二电极位于半导体发光叠层的第一表面之上,两者之间的间距为80μm以下,所述半导体发光叠层的侧壁覆盖有具有载流子俘获效应的绝缘层,所述绝缘层之上设置有钝化层,所述钝化层覆盖所述半导体发光叠层的侧壁及露出的第一表面、第一电极和第二电极的侧壁。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域,具体为一种发光二极管及采用该发光二极管的显示设备。

背景技术

近年来,LED显示行业加速发展,显示技术不断地成熟并加速迭代,其中Mini/Micro LED作为提供显示和背光源的核心器件,不仅可以实现曲面显示及超薄应用,而且在宽色域、HDR显示、动态区域调节等方面有明显的优势。

图1显示了现有的一种LED芯片结构。该LED芯片包括衬底101、缓冲层110、第一导电型半导体层121、有源层123、第二导电型半导体层123、电流扩展层130、绝缘保护层140、第一电极151和第二电极152。该钝化层140通常采用氧化硅或者氮化硅,其中氧化硅因润湿角接近0°,导致在有水汽循环的气氛中水汽不易被带走,氮化硅的润湿角虽为25~30°,但其针孔(pin-hole)尺寸较大,因此上述两种材料均存在水汽渗透的风险。该LED芯片在有水汽循环及逆向负载条件下,由于水汽渗透使得电流扩展层130与第一导电型半导体层121之间会有电流通过,引起透明导电层被烧伤,如图2所示。

随着LED芯片尺寸的减小,电极间最近距离D减小,而电场强度与电极间距成反比,故LED芯片由PN结内建电场引起的电极间电场强度随芯片尺寸缩小而增大。因此即使在未通电的情况下,由于内建电场效应(如图3所示),水汽的渗透依然会有微弱电流通过,而当LED芯片处于恶劣环境中时(如含Na、Cl离子等的环境),表面金属会通过原电池反应消耗,最终导致电极表面粗糙,如图4所示,甚至出现掉电极,如图5所示。

发明内容

本发明之目的,即在提供一种能够克服先前技术的至少一个缺点的发光二极管。

本发明解决上述技术问题的技术方案为:一种发光二极管,包括半导体发光叠层、第一电极和第二电极,其中所述半导体发光叠层具有相对的第一表面、第二表面及连接该第一表面和第二表面的侧壁,包含第一导电型半导体层、有源层和第二导电型半导体层,所述第一电极电连接至所述第一导电型半导体层,所述第二电极电连接至所述第二导电型半导体层。

其中,所述第一电极和第二电极位于半导体发光叠层的第一表面之上,两者之间的间距为80μm以下,所述半导体发光叠层的侧壁覆盖具有载流子俘获效应的绝缘层,所述绝缘层之上设置有钝化层,所述钝化层覆盖所述半导体发光叠层的侧壁及露出的第一表面、第一电极和第二电极的侧壁。

在上述发光二极管中,第一电极和第二电极均位于同一侧,且电极之间的间距为80μm以下,导致其内建电场效应明显,因此在半导体发光叠层的侧壁形成具有载流子俘获效应的绝缘层,能够有效削弱内建电场效应,从而改善电极的金属迁移问题。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门三安光电有限公司,未经厦门三安光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080003000.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top