[发明专利]化学镀铜浴有效
申请号: | 202080003242.X | 申请日: | 2020-02-13 |
公开(公告)号: | CN112534082B | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 高田英明;中山智晴;山本久光;小田幸典 | 申请(专利权)人: | 上村工业株式会社 |
主分类号: | C23C18/40 | 分类号: | C23C18/40;H05K3/18 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 金杨;李雪 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 镀铜 | ||
1.一种化学镀铜浴,其特征在于:其含有肼化合物作为还原剂、不含甲醛、pH值为5~10,
该化学镀铜浴至少含有胺类络合剂与氨基羧酸类络合剂,
所述胺类络合剂为选自三亚甲基二胺、二亚丙基三胺、2-氨甲基吡啶以及2,6-吡啶二羧酸中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的化学镀铜浴,其特征在于:
所述氨基羧酸类络合剂为选自乙二胺四乙酸、次氮基三乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、三亚乙基四胺六乙酸、1,3-丙二胺四乙酸、1,3二氨基-2-羟基丙烷四乙酸、羟乙基亚氨基二乙酸、二羟乙基甘氨酸、乙二醇醚二氨基四乙酸、二羧基甲基谷氨酸、乙二胺-N,N'-二琥珀酸、以及NNN'N'-四-(2-羟丙基)乙二胺中的至少一种。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的化学镀铜浴,其特征在于:
该化学镀铜浴中进一步含有羧酸类络合剂。
4.根据权利要求3所述的化学镀铜浴,其特征在于:
所述羧酸类络合剂为选自单羧酸、二羧酸以及氧代羧酸中的至少一种。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理