[发明专利]抛光组合物及其使用方法

权利要求书

1.一种抛光组合物，包含：

磨料；

可选地，pH调节剂；

阻挡膜移除速率增强剂；

TEOS移除速率抑制剂；

钴移除速率增强剂；

含唑腐蚀抑制剂；以及

钴腐蚀抑制剂；

其中，所述阻挡膜移除速率增强剂不同于所述钴移除速率增强剂。

2.如权利要求1所述的抛光组合物，其中，所述磨料选自由以下所组成的组：氧化铝；二氧化硅；二氧化钛；二氧化铈；氧化锆；氧化铝、二氧化硅、二氧化钛、二氧化铈或氧化锆的共形成产物；包被的磨料；表面改性的磨料及其混合物。

3.如权利要求1所述的抛光组合物，其中，所述磨料的含量为所述组合物的约0.1重量％至约25重量％。

4.如权利要求1所述的抛光组合物，其中，所述组合物包含所述pH调节剂，且所述pH调节剂选自由以下所组成的组：氢氧化铵、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化铯、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺、氢氧化四丁基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四甲基铵、氢氧化乙基三甲基胺、氢氧化二乙基二甲基铵、氢氧化二甲基二丙基铵、氢氧化苄基三甲基铵、氢氧化三(2-羟乙基)甲基铵、氢氧化胆碱及其任何组合。

5.如权利要求1所述的抛光组合物，其中，所述pH调节剂的含量为所述组合物的约0.01重量％至约10重量％。

6.如权利要求1所述的抛光组合物，其中，所述阻挡膜移除速率增强剂选自由以下所组成的组的有机酸或其盐：葡萄糖酸、乳酸、柠檬酸、酒石酸、苹果酸、乙醇酸、丙二酸、甲酸、草酸、乙酸、丙酸、丁二酸、乳酸、氨基乙酸、苯氧基乙酸、N-二甘氨酸、磷酸、二甘醇酸、甘油酸、三(羟甲基)三甲基甘氨酸、苯甲酸、次氮基三乙酸、乙二胺四乙酸、喷替酸、二氨基环己烷四乙酸、乙基磷酸、氰基乙基磷酸、苯基磷酸、乙烯基磷酸、聚(乙烯基膦酸)、1-羟基乙烷-1,1-二膦酸、氨基三亚甲基膦酸、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸、N,N,N',N'-乙二胺四(亚甲基膦酸)、正己基膦酸、苄基膦酸、苯基膦酸及其盐以及其混合物。

7.如权利要求1所述的抛光组合物，其中，所述阻挡膜移除速率增强剂的含量为所述组合物的约0.01重量％至约3重量％。

8.如权利要求1所述的抛光组合物，其中，所述TEOS移除速率抑制剂为含胺化合物，所述含胺化合物选自由烷醇胺及阳离子聚合物组成的组。

9.如权利要求8所述的抛光组合物，其中，所述烷醇胺为仲胺或叔胺。

10.如权利要求9所述的抛光组合物，其中，所述烷醇胺选自由以下所组成的组：二甲基乙醇胺、二乙基乙醇胺、三乙醇胺、二甲基异丙醇胺、三异丙醇胺、二异丙基乙醇胺、甲基二乙醇胺、乙基二乙醇胺、异丙醇二乙醇胺、异丙基二乙醇胺、丁基二乙醇胺、环己基二乙醇胺、氨丙基二乙醇胺、氨丙基二异丙醇胺、二乙醇胺、二异丙醇胺、甲基乙醇胺、二仲丁醇胺、丁基乙醇胺、N-乙酰乙醇胺及其混合物。

11.如权利要求8所述的抛光组合物，其中，所述TEOS移除速率抑制剂为阳离子聚合物。

12.如权利要求11所述的抛光组合物，其中，所述阳离子聚合物选自由以下所组成的组：聚乙烯亚胺、聚丙烯亚胺、聚葡萄胺糖、聚(二烯丙基二甲基铵盐)、聚(酯胺)、聚(酰氨基胺)、聚赖氨酸、聚(烯丙胺)、聚(氨基-共-酯)、多鸟氨酸、聚(2-乙基-2-恶唑啉)、聚季铵盐、包括至少一个含受阻胺的基团的阳离子聚合物以及其混合物。

13.如权利要求12所述的抛光组合物，其中，所述含受阻胺的基团为2,2,6,6-四甲基哌啶基。