[发明专利]铜电极材料有效
申请号: | 202080006245.9 | 申请日: | 2020-01-06 |
公开(公告)号: | CN113056569B | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 高畑雅博;福世秀秋;伊森彻;竹本幸一 | 申请(专利权)人: | JX金属株式会社 |
主分类号: | C22C9/00 | 分类号: | C22C9/00;C22F1/00;C22F1/08;H01B1/02;H01S3/038 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟 |
地址: | 日本东京都港*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电极 材料 | ||
包含Cu和不可避免的杂质的铜电极材料,其中不可避免的杂质的含量为1质量ppm或更小,并且平均晶粒直径为100μm或更小。通过铜电极材料提供了具有改进的耐蚀性的含铜电极材料。
技术领域
本发明涉及一种可适用作为在酸性环境下使用的用于电极的铜电极材料。
背景技术
近年来,脉冲雷射光逐渐用于集成电路光微影法。脉冲雷射光可在气体放电介质内利用非常短的放电且非常高的电压在一对电极间进行气体放电而产生。例如在ArF雷射系统中,在作动中在电极对之间产生含氟电浆。含氟电浆对金属的腐蚀性非常高。其结果为,随着脉冲雷射产生装置的运转,电极逐渐被腐蚀。电极的腐蚀会形成腐蚀点,使电浆发生电弧作用,进一步加速电极寿命的降低。
专利文献1中描述了使用Cu合金与Al合金作为电极用合金,但腐蚀的发展均较快。专利文献2中描述了如下技术:使用掺杂有磷的黄铜作为用于电极的铜合金,从而减少黄铜中微孔隙的产生,延长电极寿命。专利文献3中描述了使金属形成凹凸后在卤气中进行放电而进行膜形成,从而制造主放电电极的技术,但未描述改良材料金属本身的耐蚀特性的技术。专利文献4中描述了通过被给予弹力的辅助电极的塑性变形来使其与介电体管接触以提升预电离效率的技术,但未描述改良材料金属本身的耐蚀特性的技术。
[现有技术文献]
[专利文献]
专利文献1:日本专利第3875451号公报
专利文献2:日本专利第6175496号公报
专利文献3:日本专利特开2004-146579号公报
专利文献4:日本专利特开平10-242553号公报。
发明内容
[本发明旨在解决的技术问题]
在想要通过设法改进电极构造而实现电极长寿命化的现有技术中,若含铜的电极材料的耐蚀性得以改善,则可进一步实现电极的长寿命化。此外,在使用掺杂有磷的黄铜进行长寿命化的技术中,向含铜的合金掺杂磷至目标浓度的步骤虽然会产生增加步骤数的负担,但较理想为可避免此种负担。
因此,本发明的目的在于提供一种使耐蚀性提升的含铜的电极材料。
[解决技术问题的技术手段]
本发明人经潜心研究,结果发现下文所述的铜电极材料发挥优异的耐蚀性,而完成本发明。
因此,本发明包含以下(1)。
(1)
一种铜电极材料,其由Cu和不可避免的杂质组成,不可避免的杂质的含量为1质量ppm以下,平均结晶粒径为100μm以下。
[本发明的技术效果]
根据本发明,可获得耐蚀性的铜电极材料。本发明的铜电极材料可适用作为在酸性环境下使用的电极用,尤其适合作为ArF雷射系统和KrF雷射系统的电极用。本发明的铜电极材料在制造时不必添加其他元素,可避免由这些添加步骤导致的步骤数增加的负担而进行制造。
附图说明
图1为试样1(实施例1)的光学显微镜照片。
图2为试样2(比较例1)的光学显微镜照片。
图3为试样3(比较例2)的光学显微镜照片。
图4为试样4(比较例3)的光学显微镜照片。
图5为表示使用硝酸水溶液的耐蚀性试验结果的曲线图。
图6为表示使用氟硝酸水溶液的耐蚀性试验结果的曲线图。
图7为说明实施例1及比较例1~3中的试样1~4的制造流程的说明图。
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