[发明专利]表面保护膜和用于制造有机发光电子装置的方法有效

专利信息
申请号: 202080006362.5 申请日: 2020-01-22
公开(公告)号: CN113166596B 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 崔祯珉;金贤哲;金昭镇;康贤求;林载承 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: C09J7/20 分类号: C09J7/20;C09J175/04;C09J133/08;C09J11/06;H10K50/844;H10K71/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 高世豪;吴娟
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 表面 保护膜 用于 制造 有机 发光 电子 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种表面保护膜,包括:

基础层;和

设置在所述基础层的一个表面上的粘合剂层,

其中所述粘合剂层包含粘合剂组合物的固化产物,所述粘合剂组合物包含:氨基甲酸酯聚合物、丙烯酸类聚合物、和基于异氰酸酯的固化剂,其中所述氨基甲酸酯聚合物包含OH基,以及

所述粘合剂层的粘合强度保持率为50%或更大:

其中所述粘合剂层的所述粘合强度保持率为(高温剥离强度)/(低温剥离强度)×100%,

所述低温剥离强度为当将所述表面保护膜的所述粘合剂层附接至玻璃并在25℃下储存24小时,然后以1.8m/分钟的剥离速度、180°的剥离角度、并在25℃的温度下将所述表面保护膜从所述玻璃上剥离时的剥离强度,以及

所述高温剥离强度为当将所述表面保护膜的所述粘合剂层附接至玻璃,在25℃下储存24小时,然后在40℃下静置1分钟,并以1.8m/分钟的剥离速度、180°的剥离角度、并在40℃的温度下将所述表面保护膜从所述玻璃上剥离时的剥离强度,

其中所述丙烯酸类聚合物包含其中烷基具有10个或更多个碳原子的(甲基)丙烯酸烷基酯单体和含有羟基的(甲基)丙烯酸酯单体作为单体单元,

其中基于100重量份的所述氨基甲酸酯聚合物,所述丙烯酸类聚合物以1重量份至20重量份的量包含在内,

其中基于100重量份的所述氨基甲酸酯聚合物,所述基于异氰酸酯的固化剂以1重量份至25重量份的量包含在内,

其中基于所述丙烯酸类聚合物中包含的单体单元的总量,所述其中烷基具有10个或更多个碳原子的(甲基)丙烯酸烷基酯单体以1重量%至20重量%的量包含在内。

2.根据权利要求1所述的表面保护膜,其中所述低温剥离强度为0.5gf/in或更大且10gf/in或更小。

3.根据权利要求1所述的表面保护膜,其中所述高温剥离强度为0.5gf/in或更大且5gf/in或更小。

4.根据权利要求1所述的表面保护膜,其中基于所述丙烯酸类聚合物中包含的单体单元的总量,所述含有羟基的(甲基)丙烯酸酯单体以1重量%至20重量%的量包含在内。

5.根据权利要求1所述的表面保护膜,其中所述丙烯酸类聚合物的羟基值为5mg KOH/g至40mg KOH/g。

6.根据权利要求1所述的表面保护膜,其中所述基础层包括:基础膜;以及分别设置在所述基础膜的两个表面上的第一抗静电层和第二抗静电层,以及

所述粘合剂层设置在所述第二抗静电层的其上设置有所述基础膜的表面的相反表面上。

7.根据权利要求1所述的表面保护膜,还包括设置在所述粘合剂层的其上设置有所述基础层的表面的相反表面上的保护层,

其中所述保护层包括:保护膜;以及分别设置在所述保护膜的两个表面上的第三抗静电层和第四抗静电层,以及

所述粘合剂层设置在所述第三抗静电层的其上设置有所述保护膜的表面的相反表面上。

8.一种用于制造有机发光电子装置的方法,所述方法包括:

将根据权利要求1所述的表面保护膜的粘合剂层附接至有机发光元件的封装层上。

9.根据权利要求8所述的方法,其中所述有机发光元件顺序地包括背板、塑料基底、薄膜晶体管、有机发光二极管、和封装层。

10.根据权利要求8所述的方法,还包括:将所述表面保护膜从所述封装层上剥离;以及将触摸屏面板和覆盖窗堆叠在所述封装层上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社LG化学,未经株式会社LG化学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080006362.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top