[发明专利]表面保护膜和用于制造有机发光电子装置的方法

说明书

本发明涉及：包括基础层和设置在基础层的一个表面上的粘合剂层的表面保护膜，其中粘合剂层包含粘合剂组合物的固化产物，所述粘合剂组合物包含氨基甲酸酯聚合物、丙烯酸类聚合物、和固化剂；以及用于制造包括所述表面保护膜的有机发光电子装置的方法。所述表面保护膜在室温下对被粘物的表面具有低粘合性，因此可以用低剥离力从被粘物上除去。此外，所述表面保护膜即使在升高的温度下也保持粘合性，因此提供了适当保护被粘物的表面的作用。

技术领域

本申请要求于2019年1月25日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2019-0010021号的优先权和权益，其全部内容通过引用并入本文。

本申请涉及表面保护膜和使用所述表面保护膜来制造有机发光电子装置的方法。

背景技术

用作柔性显示器用基底材料的塑料基底具有水分、氧等的气体阻挡特性显著低的问题。因此，在相关领域中，通过在基底上形成应用各种材料和结构的阻挡膜来减轻塑料基底的问题。

然而，近来，由于不再使用现有的阻挡膜，因此需要开发能够在制造柔性光学元件的过程期间保护薄膜封装(TFE)层的过程用表面保护膜。过程用表面保护膜是暂时保护薄膜封装层的膜，在过程期间被附接至薄膜封装层以防止在过程期间薄膜封装层的表面的污染或损坏，并且当完成过程时被除去。

作为表面保护膜所需的物理特性，首先，设置在表面保护膜中的粘合剂需要很好地附接至被粘物的表面，并且表面保护膜在除去步骤期间可以用低剥离强度除去，使得应能够防止对被粘物的损坏。其次，在除去表面保护膜之后，粘合剂的残留物少并且应能够防止被粘物的污染。

[现有技术文献]

[专利文献]

韩国专利第10-1756828号

发明内容

技术问题

本发明的目的是提供这样的粘合剂层：其中即使不包含增塑剂，也在室温(25℃)下实现低粘合强度并且由温度增加导致的粘合强度的劣化低。

技术方案

本说明书的一个示例性实施方案提供了表面保护膜，其包括：基础层；和设置在基础层的一个表面上的粘合剂层，其中粘合剂层包含粘合剂组合物的固化产物，所述粘合剂组合物包含：氨基甲酸酯聚合物、丙烯酸类聚合物、和固化剂，并且粘合剂层的粘合强度保持率为50％或更大。

粘合剂层的粘合强度保持率为(高温剥离强度)/(低温剥离强度)×100％，

低温剥离强度为当将表面保护膜的粘合剂层附接至玻璃并在25℃下储存24小时，然后以1.8m/分钟的剥离速度、180°的剥离角度、并在25℃的温度下将表面保护膜从玻璃上剥离时的剥离强度，以及

高温剥离强度为当将表面保护膜的粘合剂层附接至玻璃，在25℃下储存24小时，然后在40℃下静置1分钟，并以1.8m/分钟的剥离速度、 180°的剥离角度、并在40℃的温度下将表面保护膜从玻璃上剥离时的剥离强度。

本说明书的另一个示例性实施方案提供了用于制造有机发光电子装置的方法，所述方法包括：将所述表面保护膜的粘合剂层附接至有机发光元件的封装层上。

有益效果

由于本发明的表面保护膜在室温(25℃)下对被粘物的表面具有低粘合强度，因此可以用低剥离强度将表面保护膜从被粘物上除去。

此外，在根据本发明的一个示例性实施方案的粘合剂层中，即使温度升高也保持粘合强度，使得即使在过程期间温度升高也可以很好地保护被粘物的表面。

附图说明

图1示出了表面保护膜，其包括：基础层110；粘合剂层124；和保护层130。