[发明专利]喷嘴、显影装置以及被处理体的加工方法在审
申请号: | 202080007264.3 | 申请日: | 2020-12-14 |
公开(公告)号: | CN115942996A | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 神田真治;涩谷纪仁 | 申请(专利权)人: | 新东工业株式会社 |
主分类号: | B05B7/04 | 分类号: | B05B7/04;H01L21/304;B05B15/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王玮;苏琳琳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷嘴 显影 装置 以及 处理 加工 方法 | ||
1.一种喷嘴,其喷射处理液,所述喷嘴的特征在于,
具备具有中心轴线的筒状的壳体,
所述壳体具有:
向所述壳体内供给所述处理液的液体供给口、
向所述壳体内供给压缩气体的气体供给口、以及
将所述处理液与所述压缩气体一同喷射的喷射口,
所述喷射口具有以所述中心轴线为中心的圆环形状。
2.根据权利要求1所述的喷嘴,其特征在于,
进一步具备杆部件,所述杆部件在所述中心轴线的延伸方向上配置于所述液体供给口与所述喷射口之间,所述杆部件具有直径随着朝向所述喷射口侧而扩大的倾斜面,
将从所述液体供给口供给的所述处理液以及从所述气体供给口供给的所述压缩气体引导至所述喷射口的流体通路被形成于所述壳体的内周面与所述倾斜面之间。
3.根据权利要求1或2所述的喷嘴,其特征在于,
构成为从所述喷射口雾状地喷射所述处理液。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的喷嘴,其特征在于,进一步具备:
液体供给管,所述液体供给管将所述处理液沿着所述中心轴线引导至所述壳体内;以及
扩散板,所述扩散板将在所述液体供给管流动的所述处理液扩散,所述扩散板形成有沿着以所述中心轴线为中心的周向排列的多个开口。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的喷嘴,其特征在于,
所述处理液是将抗蚀膜显影的显影液,或者将被处理体蚀刻的蚀刻液。
6.一种显影装置,其将在被处理体上形成的抗蚀膜显影,所述显影装置的特征在于,具备:
处理容器、
配置于所述处理容器内的权利要求1~5中任一项所述的喷嘴、
在所述处理容器内使所述被处理体相对于所述喷嘴相对地移动的搬运机构、
将作为所述处理液的显影液向所述喷嘴供给的显影液供给装置、以及
将所述压缩气体向所述喷嘴供给的压缩气体供给装置。
7.根据权利要求6所述的显影装置,其特征在于,
所述显影液供给装置将被加热到40℃以上的所述显影液供给至所述喷嘴。
8.根据权利要求6或7所述的显影装置,其特征在于,
进一步具备从所述处理容器内回收包含所述显影液的气体并进行气液分离的回收装置。
9.一种被处理体的加工方法,其特征在于,包含:
在被处理体上形成具有感光性的抗蚀膜的工序、
对所述抗蚀膜进行曝光的工序、以及
对被曝光的所述抗蚀膜从具有圆环状的喷射口的喷嘴将显影液与压缩气体一同喷射而形成抗蚀图案的工序。
10.根据权利要求9所述的被处理体的加工方法,其特征在于,
从所述喷射口雾状地喷射所述显影液。
11.根据权利要求9或10所述的被处理体的加工方法,其特征在于,
以从沿着所述喷射口的中心轴线的方向观察呈圆环状,并且直径随着从所述喷射口分离而变大的喷射模式喷射所述显影液。
12.根据权利要求11所述的被处理体的加工方法,其特征在于,
所述显影液的喷射方向相对于所述中心轴线以10°以下的角度倾斜。
13.根据权利要求9~12中任一项所述的被处理体的加工方法,其特征在于,
进一步包含隔着所述抗蚀图案向所述被处理体喷射研磨材料,而除去所述被处理体的一部分的工序。
14.根据权利要求9~12中任一项所述的被处理体的加工方法,其特征在于,
进一步包含从所述喷嘴隔着所述抗蚀图案向所述被处理体喷射蚀刻液,而除去所述被处理体的一部分的工序。
15.根据权利要求9~14中任一项所述的被处理体的加工方法,其特征在于,
进一步包含向所述抗蚀图案供给剥离液,而从所述被处理体除去所述抗蚀图案的工序。
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