[发明专利]喷嘴、显影装置以及被处理体的加工方法

说明书

在一个方式中，提供一种向被处理体喷射处理液的喷嘴。该喷嘴具备：具有中心轴线的壳体、向壳体内供给处理液的液体供给口、向壳体内供给压缩气体的气体供给口、以及将处理液与压缩气体一同喷射的喷射口，喷射口具有以中心轴线为中心的圆环形状。

技术领域

本发明涉及喷嘴、显影装置以及被处理体的加工方法。

背景技术

在专利文献1中，记载了向在被处理体的表面形成的抗蚀膜供给显影液，而使该抗蚀膜显影的显影装置。该显影装置具有包含横长狭缝形状的喷射口的喷嘴，通过从该喷嘴向喷射口的短边方向倾斜的方向与高压气体一同喷射显影液，而在被处理体上形成抗蚀图案。

专利文献1：日本专利5153332号公报

如上述那样，在专利文献1记载的喷嘴中，向喷射口的短边方向倾斜的方向喷射显影剂，由此能够促进抗蚀膜向该短边方向的显影。另一方面，在喷射口的长边方向，通过对抗蚀膜从大致垂直方向供给显影剂，能够抑制抗蚀膜的显影的进行。因此，在使用专利文献1记载的喷嘴而进行了显影处理的情况下，存在在喷射口的长边方向以及短边方向上，在抗蚀图案的图案尺寸上产生差异的情况。若使用这样的抗蚀图案对被处理体进行加工，则存在因面内方向而会在被处理体的加工精度产生偏差的情况。因此，特别是在对被处理体的加工要求较高的精度的情况下，存在以被要求的精度对被处理体进行加工变得困难的情况。

发明内容

因此，本公开的目的在于，提高相对于被处理体的加工的均匀性。

在一个方式中，提供一种喷射处理液的喷嘴。该喷嘴具备具有中心轴线的筒状的壳体。该壳体具有：液体供给口，其向壳体内供给处理液；气体供给口，其向壳体内供给压缩气体；以及喷射口，其将处理液与压缩气体一同喷射。喷射口具有以中心轴线为中心的圆环形状。

上述方式的喷嘴具备具有圆环形状的喷射口，从该喷射口喷射从液体供给口导出的处理液以及从气体供给口导出的压缩气体。从具有圆环形状的喷射口在以中心轴线为中心的周向上均匀地喷射处理液，因此在该周向上抑制加工精度的偏差。因此，能够提高相对于被处理体的加工的均匀性。

一个实施方式的喷嘴也可以进一步具备杆部件，该杆部件在中心轴线的延伸方向上配置于液体供给口与喷射口之间，且具有直径随着朝向喷射口侧而扩大的倾斜面，将从液体供给口供给的处理液以及从气体供给口供给的压缩气体引导至喷射口的流体通路被形成于壳体的内周面与倾斜面之间。流入在壳体的内周面与杆部件之间形成的流体通路的处理液以及压缩气体沿着杆部件的倾斜面被引导，并从喷射口喷射。由此，向相对于中心轴线倾斜的方向喷射处理液，因此能够向被处理体的开口部的侧壁面全面地供给处理液。其结果，能够提高被处理体的加工精度。

一个实施方式的喷嘴也可以构成为从喷射口将处理液雾状地喷射。将处理液雾状地喷射，由此处理液容易被供给至被处理体的开口部的内部，因此能够更加提高被处理体的加工精度。

在一个实施方式中，也可以进一步具备：液体供给管，其将处理液沿着中心轴线引导至壳体内；及扩散板，其将在液体供给管流动的处理液扩散，且形成有沿着以中心轴线为中心的周向排列的多个开口。在该实施方式中，在液体供给管流动的处理液在与扩散板碰撞而扩散后，与压缩空气一同被引导至流体通路。将这样扩散的处理液导入流体通路，由此能够提高从喷射口喷射的处理液的均匀性。

在一个实施方式中，处理液也可以为将抗蚀膜显影的显影液或者对被处理体进行蚀刻的蚀刻液。从上述的喷嘴向被处理体喷射显影液或者蚀刻液，由此能够以较高的均匀性加工被处理体。

在一个方式中，提供一种将在被处理体上形成的抗蚀膜显影的显影装置。该显影装置具备：处理容器；配置于处理容器内的上述喷嘴；搬运机构，其在处理容器内使被处理体相对于喷嘴相对地移动；显影液供给装置，其将显影液作为处理液供给至喷嘴；以及将压缩气体供给至喷嘴的压缩气体供给装置。