[发明专利]曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其进行第一曝光与第二曝光，所述第一曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在第一时间内对所述被曝光基板上的第一曝光区域进行曝光，所述第二曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在与所述第一时间不同的第二时间内对所述被曝光基板上的第二曝光区域进行曝光，其特征在于，所述曝光装置包括：

照明光学系统，供给照明光；

投影光学系统；以及

设定构件，在与所述扫描方向正交的非扫描方向上，以所述第一曝光区域及所述第二曝光区域各自的一部分重复的第二区域中的曝光量分布相对于所述第二区域的中心变成不对称的分布的方式进行设定。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述设定构件具有照度变更构件，所述照度变更构件使对所述第一曝光区域进行照明的照明光的照度分布与对所述第二曝光区域进行照明的照明光的照度分布不同。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

所述照度变更构件将所述第二区域中的曝光量相对于第一区域中的曝光量进行相对地变更，所述第一区域是所述第一曝光区域的其他部分及所述第二曝光区域的其他部分的区域。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

所述照度变更构件使所述第一区域中的所述曝光量相对于所述第二区域中的所述曝光量变低。

5.一种曝光装置，其特征在于，包括：

照明光学系统，供给照明光；

投影光学系统；

基板载台，以规定图案在被曝光基板上得到曝光的方式，使所述被曝光基板相对于所述投影光学系统朝扫描方向进行相对移动；以及

照度变更构件，将第一区域中的曝光量设定得比第二区域中的曝光量少，所述第一区域是在所述曝光中，通过所述投影光学系统的扫描曝光视场而在时间上连续地得到曝光的所述被曝光基板上的区域，所述第二区域是通过所述扫描曝光视场而在时间上离散地得到曝光的所述被曝光基板上的区域，且以与所述扫描方向正交的方向上的所述第二区域的曝光量分布相对于所述第二区域的中心变成不对称的分布的方式进行设定。

6.根据权利要求3至5中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述照度变更构件配置于所述照明光学系统中的所述被曝光基板的共轭面或所述共轭面的附近。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，还包括控制所述照度变更构件的位置的控制部，

所述照明光学系统具有光学积分器，

所述光学积分器设置于所述照明光的入射面相对于所述被曝光基板上的所述投影光学系统的扫描曝光视场变成共轭面的位置，

所述控制部以变更朝所述光学积分器入射的所述照明光的照度的方式，使所述照度变更构件相对于所述光学积分器，朝以光学方式对应于所述扫描方向的第一方向移动，所述第一方向是与所述照明光学系统的光轴方向大致正交的方向。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部使所述照度变更构件相对于所述光学积分器，朝所述照明光学系统的所述光轴方向移动。

9.根据权利要求7或8所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部使所述照度变更构件相对于所述光学积分器，朝与所述第一方向及所述照明光学系统的所述光轴方向正交的第二方向移动。

10.根据权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部对应于所述被曝光基板相对于所述投影光学系统的在所述第一方向上的移动方向，使所述照度变更构件朝所述第二方向移动。

11.根据权利要求7至10中任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部控制所述照度变更构件的与所述第一方向及所述照明光学系统的所述光轴方向正交的第二方向的实效宽度。