[发明专利]曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法

说明书

一种曝光装置，其进行第一曝光与第二曝光，所述第一曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在第一时间内对被曝光基板上的第一曝光区域进行曝光，所述第二曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在与第一时间不同的第二时间内对被曝光基板上的第二曝光区域进行曝光，所述曝光装置包括：照明光学系统，供给照明光；投影光学系统；以及设定构件，在与扫描方向正交的非扫描方向上，以第一曝光区域及第二曝光区域各自的一部分重复的第二区域中的曝光量分布相对于所述第二区域的中心变成不对称的分布的方式进行设定。

技术领域

本发明涉及一种曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法。

背景技术

作为用于将掩模上的图案原版曝光转印至大型基板的装置，已知有相对于投影光学系统对掩模及基板进行相对扫描来进行曝光的扫描型曝光装置。通过扫描曝光，曝光视场在扫描方向上扩大，但也已知有如下的曝光装置，其为了进而在与扫描方向交叉的方向(非扫描方向)上也扩大曝光视场，而使其曝光区域在非扫描方向上重叠来进行多次扫描曝光。

进而，也已知有如下的方法：在非扫描方向上并列地包括多个投影光学系统，一面使多个投影光学系统进行曝光的曝光视场的一部分重叠一面进行曝光，由此利用一次扫描来将电子电路曝光转印至基板上(例如专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2016-54230号公报

发明内容

根据第一实施例，一种曝光装置，其进行第一曝光与第二曝光，所述第一曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在第一时间内对所述被曝光基板上的第一曝光区域进行曝光，所述第二曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在与所述第一时间不同的第二时间内对所述被曝光基板上的第二曝光区域进行曝光，所述曝光装置包括：照明光学系统，供给照明光；投影光学系统；以及设定构件，在与所述扫描方向正交的非扫描方向上，以所述第一曝光区域及所述第二曝光区域各自的一部分重复的第二区域中的曝光量分布相对于所述第二区域的中心变成不对称的分布的方式进行设定。

根据第二实施例，一种曝光装置，包括：照明光学系统，供给照明光；投影光学系统；基板载台，以规定图案在被曝光基板上得到曝光的方式，使所述被曝光基板相对于所述投影光学系统朝扫描方向进行相对移动；以及照度变更构件，将第一区域中的曝光量设定得比第二区域中的曝光量少，所述第一区域是在所述曝光中，通过所述投影光学系统的扫描曝光视场而在时间上连续地得到曝光的所述被曝光基板上的区域，所述第二区域是通过所述扫描曝光视场而在时间上离散地得到曝光的所述被曝光基板上的区域，且以与所述扫描方向正交的方向上的所述第二区域的曝光量分布相对于所述第二区域的中心变成不对称的分布的方式进行设定。

根据第三实施例，一种元件制造方法，包括：利用第一实施例或第二实施例的曝光装置对被曝光基板进行曝光处理；以及对经曝光的所述被曝光基板进行显影处理。

根据第四实施例，一种照明光学系统，为在对基板进行曝光的曝光装置中使用的照明光学系统，在第一时间内对朝扫描方向移动的物体上的第一照明区域照射照明光，在与所述第一时间不同的第二时间内对朝所述扫描方向移动的所述物体上的第二照明区域照射所述照明光，所述照明光学系统包括设定构件，所述设定构件在与所述扫描方向正交的非扫描方向上，以如下的区域中的曝光量分布相对于所述区域的中心变成不对称的分布的方式进行设定，所述区域是经由所述第一照明区域及所述第二照明区域各自的一部分重复的重叠区域而得到曝光的所述基板上的区域。

根据第五实施例，一种曝光装置，包括：第四实施例的照明光学系统；以及基板载台，保持所述基板，以所述物体所具有的规定图案在所述基板上得到曝光的方式，使所述基板相对于所述照明光朝第一方向进行相对移动。

附图说明

图1是表示第一实施方式的曝光装置的结构的侧面图。

图2是表示第一实施方式的曝光装置的一部分的立体图。