[发明专利]用于制备具有多层抗反射涂层的光学制品的方法

权利要求书

1.一种用于制备涂布过的光学制品的方法，所述方法包括：

(a)提供不导电基底；

(b)在所述基底的至少一部分上形成至少一个导电涂层以形成导电基底；

(c)将(b)的所述导电基底引入第一电沉积浴液中，所述第一电沉积浴液含有处于持续再循环流动的第一种可电沉积涂料组合物；

(d)在所述导电涂层的至少一部分上电沉积第一种可电沉积涂料组合物以形成第一个电沉积的无机涂层；

(e)将(d)的涂布过的基底引入至少第二电沉积浴液中，所述第二电沉积浴液含有处于持续再循环流动的第二种可电沉积涂料组合物；以及

(f)在所述第一个电沉积的无机涂层的至少一部分上电沉积至少所述第二种可电沉积涂料组合物以在其上形成至少第二个电沉积的无机涂层，由此在所述导电涂层上形成多层抗反射无机涂层，

其中所述第一种可电沉积涂料组合物与所述第二种可电沉积涂料组合物各自彼此不同，并且

其中所述第一种可电沉积涂料组合物与所述第二种可电沉积涂料组合物各自包含至少一种由包含至少一种金属氧化物前体和至少一种质子酸的组合物制备的溶胶，由此使所述第一种可电沉积涂料组合物与所述第二种可电沉积涂料组合物各自被水解。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一种可电沉积涂料组合物和所述第二种可电沉积涂料组合物各自的pH值在1.5至5.0的范围内。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述第一种可电沉积涂料组合物和所述第二种可电沉积涂料组合物各自包含至少5重量％的水和至少0.5重量％的共溶剂。

4.根据权利要求1所述的方法，所述方法另外包括在所述第一个电沉积的无机涂层上电沉积所述第二种可电沉积涂料组合物之前，干燥所述第一个电沉积的无机涂层，和/或干燥所述第二个电沉积的无机涂层。

5.根据权利要求4所述的方法，其中将所述第一个电沉积的无机涂层和所述第二个电沉积的无机涂层中的一个或两个在环境温度至200℃范围内的温度下干燥在30秒至3分钟范围内的时间。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一种可电沉积涂料组合物和所述第二种可电沉积涂料组合物中的一种或两种包含由两种或更多种金属氧化物前体制备的溶胶。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述导电涂层是透明的。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述导电涂层具有至少80％的光透射率百分比和小于1000欧姆/平方的电阻。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述导电涂层包含至少一种选自由以下组成的组的金属合金氧化物：钛、铪、锆、铌、锌、铋、铅、铟、锡、锌/锡合金的氧化物，及其组合。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述导电涂层包含一种或多种选自由以下组成的组的导电纳米材料：碳纳米管、石墨烯、金属纳米线及其混合物。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述多层抗反射无机涂层具有超过80％的透射率百分比。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一种可电沉积涂料组合物和所述第二种可电沉积涂料组合物中的一种或两种包含由至少一种金属氧化物前体制备的溶胶，所述金属氧化物前体选自由以下组成的组：烷氧硅烷、金属卤氧化物、金属醇盐及其混合物。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述金属氧化物前体选自具有以下通式(I)的那些：

(II)M(R)_n(X)_m，

其中M是金属、过渡金属或硅；R是不可水解的基团；X是可水解基团，n+m＝4；

n是0至3的整数；以及m是1至4的整数。