[发明专利]用于制备具有多层抗反射涂层的光学制品的方法

说明书

本发明涉及一种用于制备涂布过的光学制品的方法，所述方法包括提供不导电基底；在所述基底上形成导电涂层；在所述导电涂层上电沉积第一种可电沉积涂料组合物以形成第一个电沉积的无机涂层；以及在所述第一个电沉积的涂层上电沉积第二种可电沉积涂料组合物以在其上形成第二个电沉积的无机涂层，由此在所述导电涂层上形成多层抗反射无机涂层。所述第一种可电沉积涂料组合物与所述第二种可电沉积涂料组合物各自彼此不同，并且各自包括由金属氧化物前体与质子酸的组合物制备的溶胶，由此使各涂料组合物被水解。还提供了涂布过的光学制品。

相关申请的交叉引用

本申请要求2019年1月30日提交的第16/262,118号美国非临时专利申请的优先权，该案的公开内容以全文引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及用于制备光学制品，特别是展示抗反射特性的光学制品的方法。所述方法提供了包含涂布有多层电沉积抗反射无机涂层的基底的光学制品。

背景技术

已知用于减少光学制品表面，例如光学透镜和显示屏表面的反射和眩光(即，眼睛感知的明亮镜面反射)的各种方法。例示性方法涉及在所述制品表面上沉积光干涉涂层叠层，通过利用相邻薄膜内的光学干涉来减少反射。取决于涂层和基底的相对折射率，此类膜的厚度典型地是可见光标称波长的约四分之一或二分之一。另一种已知的方法包括在基底的表面处，如通过以机械方式或以化学方式改变基底的最外表面，或通过使用漫射体涂层或减少眩光的滤光器，形成光散射构件。

干涉涂层可减少反射和眩光，而不损害分辨率。然而，此类涂层沉积起来相对较贵，需要使用真空沉积技术，如溅射和精确的制造条件，或极精确的烷氧化物沉积涂布技术以及后续干燥和烧制步骤。

由于典型的抗反射涂层叠层包含交替的具有不同折射率的金属氧化物膜的多个薄层，故膜厚度均一性对于实现所希望的结果至关重要。如果不严格控制膜厚度均一性，则所述涂层叠层中各薄膜的对应折射率的差异将产生干涉图案，这些图案通常被目测检测为彩色或“彩虹色”的条纹或线条。必须维持严格的处理参数以获得所希望的无缺陷结果。

因此，希望提供一种用于将抗反射无机涂层叠层施加于光学制品表面上，以得到均一薄膜厚度，同时避免现有技术的众多缺点的替代性低成本且高效的方法。

发明内容

本发明涉及一种用于制备涂布过的光学制品的方法，所述方法包括：

(a)提供不导电基底；

(b)在所述基底的至少一部分上形成至少一个导电涂层以形成导电基底；

(c)将(b)的所述导电基底引入第一电沉积浴液中，所述第一电沉积浴液含有处于持续再循环流动的第一种可电沉积涂料组合物；

(d)在所述导电涂层的至少一部分上电沉积第一种可电沉积涂料组合物以形成第一个电沉积的无机涂层；

(e)将(d)的涂布过的基底引入至少第二电沉积浴液中，所述第二电沉积浴液含有处于持续再循环流动的第二种可电沉积涂料组合物；以及

(f)在所述第一个电沉积的无机涂层的至少一部分上电沉积至少第二种可电沉积涂料组合物以在其上形成至少第二个电沉积的无机涂层，由此在所述导电涂层上形成多层抗反射无机涂层。

所述第一种可电沉积涂料组合物与所述第二种可电沉积涂料组合物各自彼此不同。所述第一种可电沉积涂料组合物与所述第二种可电沉积涂料组合物各自包含至少一种由包含至少一种金属氧化物前体和至少一种质子酸的组合物制备的溶胶，由此使所述第一种可电沉积涂料组合物与所述第二种可电沉积涂料组合物各自被水解。

还提供了通过前述方法制备的涂布过的光学制品，如涂布过的光学元件。

附图说明