[发明专利]蒸发原料用容器和使用该蒸发原料用容器的固体气化供给系统在审
申请号: | 202080013070.4 | 申请日: | 2020-02-05 |
公开(公告)号: | CN113366143A | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 斋笃;松本浩 | 申请(专利权)人: | 株式会社高纯度化学研究所 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/34;C23C16/40;C25F3/16;H01L21/205;H01L21/31 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张桂霞;杨思捷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蒸发 原料 容器 使用 固体 气化 供给 系统 | ||
1.蒸发原料用容器,其是用于贮存作为蒸发原料的薄膜形成用金属卤化物且使其蒸发的蒸发原料用容器,具备:
容器主体,具有容器壁;
盖体,拆装自如地构成于上述容器主体,具有向上述容器主体内导入载气的载气导入口和混合气体导出口,该混合气体导出口将已蒸发的上述薄膜形成用金属卤化物与上述载气的混合气体导出至外部;
紧固构件,固定上述容器主体和上述盖体;以及
接合构件,配设于上述盖体的上述载气导入口和上述混合气体导出口,
上述容器主体的上述容器壁由纯度为99~99.9999%的铜、纯度为99~99.9999%的铝、或纯度为99~99.9999%的钛构成,
对上述容器主体、上述盖体、上述紧固构件、和上述接合构件分别施行氟树脂涂层、和/或对各自的表面施行电解抛光。
2.权利要求1所述的蒸发原料用容器,其中,上述容器壁具有由内壁构件和外壁构件构成的双重壁结构,从上述载气导入口导入的上述载气经由上述双重壁结构的上述内壁构件与上述外壁构件之间被导入至上述容器主体内。
3.权利要求2所述的蒸发原料用容器,其中,在构成上述容器壁的上述内壁构件的底面部具有容器内导入口,该容器内导入口将经由上述内壁构件与上述外壁构件之间的上述载气导入至上述容器主体。
4.权利要求1~3中任一项所述的蒸发原料用容器,其中,上述紧固构件由螺栓构件和与上述螺栓构件螺合而紧固的螺母构件构成,该螺栓构件插入到设于上述容器主体和上述盖体的螺栓插入孔中。
5.权利要求1~3中任一项所述的蒸发原料用容器,该蒸发原料用容器还具有悬挂于上述容器主体内的至少1个板状的架构件。
6.权利要求5所述的蒸发原料用容器,其中,上述架构件中的至少1个具有形成有多个贯穿孔的喷淋头结构。
7.权利要求5所述的蒸发原料用容器,其中,上述架构件中的至少1个由多孔体构成。
8.权利要求1~3、6和7中任一项所述的蒸发原料用容器,其中,在上述容器主体内还具有一个以上的球形、椭球形、叶状、螺旋状或其他不定形状的构件,该构件由铝或铜制成,其一个方向上的最大长度为1~30mm。
9. 权利要求1~3、6和7中任一项所述的蒸发原料用容器,其中,作为上述蒸发原料的上述薄膜形成用金属卤化物为下述通式(1)所表示的化合物:
通式(1):MXn
其中,在上述通式(1)中,M表示Al、Hf、Zr、Ta、W、Ga、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Er、Tm、Yb和Co中的任一种元素,X表示卤素,n为X的数目。
10.权利要求1~3、6和7中任一项所述的蒸发原料用容器,该蒸发原料用容器用于基于化学气相沉积法的成膜。
11.权利要求1~3、6和7中任一项所述的蒸发原料用容器,该蒸发原料用容器用于基于原子层沉积法的成膜。
12.权利要求1~3、6和7中任一项所述的蒸发原料用容器,该蒸发原料用容器还具备阀门,该阀门配设在上述混合气体导出口的下游侧的一部分气体流路上,
上述阀门是CV值(水置换)为0.2以上的真空阀。
13. 固体气化供给系统,具备:
权利要求1~12中任一项所述的蒸发原料用容器;以及
贮存在上述蒸发原料用容器内的作为上述蒸发原料的上述薄膜形成用金属卤化物,
从上述盖体的上述载气导入口供给上述载气,从上述盖体的上述混合气体导出口供给混合有已蒸发的上述薄膜形成用金属卤化物与上述载气的混合气体。
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