[发明专利]用于光刻装置中的部件、保护部件的方法以及保护光刻装置中的台的方法

权利要求书

1.一种保护光刻装置的部件的方法，所述方法包括以下步骤：

提供保护盖，所述保护盖被成形为保护所述部件的至少一部分，所述保护盖具有接触表面，所述接触表面被布置为粘附到所述光刻装置或所述部件的至少一部分的第一表面；以及

使所述保护盖接近所述部件，以便使得所述接触表面粘附到所述光刻装置或所述部件并且在不施加外力的情况下保持粘附。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一表面是所述部件的表面。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一表面与所述部件相邻。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述接触表面包括涂层，所述涂层被配置为粘附到所述第一表面。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述涂层包括多个薄膜驻极体。

6.根据权利要求4所述的方法，其中所述涂层是对所述第一表面具有不同电子亲合力的材料，使得所述第一表面与所述接触表面之间的接触引起所述表面之间的接触带电。

7.根据权利要求6所述的方法，其中使所述保护盖接触的所述步骤包括多次接触并移除所述保护盖，从而由于所述接触表面与所述第一表面之间的接触带电而增加所述粘附。

8.根据权利要求4至7中任一项所述的方法，其中所述涂层是非金属涂层。

9.根据权利要求4所述的方法，其中所述涂层是包括惰性金属的金属涂层，所述惰性金属被布置为在与所述第一表面接触时形成金属间键合。

10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，还包括以下步骤：在使所述保护盖与所述部件接触之前，处理所述第一表面或所述接触表面以提高粘附性。

11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述方法作为所述光刻装置的冲洗、排气、维护、运输或其他移动的操作的一部分来执行。

12.根据前述权利要求中任一项所述的方法，还包括以下步骤：通过以下任一方式从所述部件移除所述保护盖：跨所述保护盖施加压力差；向所述部件施加机械力；或向所述部件施加静电电势以排斥所述保护盖。

13.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述部件是包括主体的支撑结构，所述主体具有主体表面和从所述主体表面突出的多个突节，并且每个突节具有被配置为与可移除元件接合的远端表面，并且其中所述保护盖被布置为覆盖所述突节。

14.根据从属于权利要求12的权利要求13所述的方法，其中所述移除步骤包括：将气体供应到所述突节、所述主体表面和所述保护盖之间的区域，以便将所述区域中的压力增加到高于所述区域外部的压力。

15.根据权利要求13或权利要求14所述的方法，其中所述主体表面在所述突节之间具有涂层，所述涂层包括多个薄膜驻极体。

16.一种用于光刻装置中的图案形成装置，所述图案形成装置在其内形成有图案，所述图案当在所述光刻装置中被从第一侧照射时，被投影到衬底上，所述图案形成装置具有与所述第一侧相对的第二侧，所述第二侧被布置为当与所述支撑结构接触时粘附到所述光刻装置中的支撑结构，并且在不施加外力的情况下保持粘附到其上。

17.根据权利要求16所述的图案形成装置，其中所述第二侧具有涂层，所述涂层被配置为粘附到所述支撑结构。

18.根据权利要求17所述的图案形成装置，其中所述涂层包括多个薄膜驻极体。