[发明专利]微发光二极管吸附体在审
| 申请号： | 202080013974.7 | 申请日： | 2020-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN113424305A | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 安范模;朴胜浩;边圣铉 | 申请（专利权）人： | 普因特工程有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 贺财俊;臧建明 |
| 地址： | 韩国忠清南道牙山市屯浦面*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 发光二极管 吸附 | ||
1.一种微发光二极管吸附体，是利用真空吸入力吸附微发光二极管的微发光二极管吸附体，其特征在于，包括：
主体部，布置有真空吸入路径；以及
缓冲部，配置在所述主体部的表面，以在吸附所述微发光二极管时缓和冲击。
2.根据权利要求1所述的微发光二极管吸附体，其特征在于，
所述主体部为所述真空吸入路径上下贯通的非多孔性部件。
3.根据权利要求1所述的微发光二极管吸附体，其特征在于，
所述主体部为多孔性部件。
4.根据权利要求3所述的微发光二极管吸附体，其特征在于，
所述多孔性部件具有任意气孔。
5.根据权利要求3所述的微发光二极管吸附体，其特征在于，
所述多孔性部件具有垂直气孔。
6.根据权利要求5所述的微发光二极管吸附体，其特征在于，
所述多孔性部件由具有垂直气孔的阳极氧化膜形成，且具有比所述气孔的宽度大的宽度的贯通孔形成所述真空吸入路径。
7.根据权利要求1所述的微发光二极管吸附体，其特征在于，
所述缓冲部的暴露表面具有粘着力。
8.根据权利要求1所述的微发光二极管吸附体，其特征在于，
所述缓冲部的暴露表面不具有粘着力。
9.根据权利要求1所述的微发光二极管吸附体，其特征在于，
所述缓冲部包含金属材质。
10.一种微发光二极管吸附体，其特征在于，包括：
主体部，配置有具有气孔的阳极氧化膜及贯通所述阳极氧化膜的贯通孔；以及
缓冲部，配置在所述主体部的表面，且在吸附微发光二极管时缓和冲击。
11.根据权利要求10所述的微发光二极管吸附体，其特征在于，
所述缓冲部的开口具有与所述贯通孔对应的面积。
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