[发明专利]与纳米线尺寸相关的纳米线印墨表现在审
申请号: | 202080014122.X | 申请日: | 2020-04-01 |
公开(公告)号: | CN113424273A | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 麦可·安德鲁·史佩德;傑夫·艾伦·沃克 | 申请(专利权)人: | 英属维京群岛商天材创新材料科技股份有限公司 |
主分类号: | H01B1/22 | 分类号: | H01B1/22;C09D11/52 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 王玉双;张燕华 |
地址: | 维尔京群岛*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 尺寸 相关 线印墨 表现 | ||
1.一种用于预测从含有纳米线(nanowire)的印墨(ink)制得的透明导电膜(transparent conductive film)的至少一种表现性质(performance property)的方法,该方法包含:
从该印墨取得纳米线母群(population)以用于分析;
对来自该印墨的母群内的所有纳米线测定长度与直径的至少一者;以及
比较所测定的长度与直径的至少一者与一数值指数(value index),该数值指数是与透明导电膜的至少一种表现性质相关联。
2.如权利要求1所述的方法,其中透明导电膜的该至少一种表现性质为光学性质(optical property)。
3.如权利要求2所述的方法,其中该光学性质为雾度(haze)。
4.如权利要求2所述的方法,其中该光学性质为漫反射(diffuse reflection)。
5.如权利要求1所述的方法,其中,当比较步骤是提供透明导电膜的至少一种表现性质将不符合要求(unsatisfactory)的指示(indication)时,该方法是作为品质控制方法而应用以避免使用该印墨来制造透明导电膜。
6.如权利要求1所述的方法,其中,当一定量的纳米线(an amount of nanowires)具有落在特定直径标准(specified diameter criteria)之外的直径时,比较步骤是提供透明导电膜的至少一种表现性质将不符合要求的指示。
7.如权利要求1所述的方法,其中,当一定量的纳米线具有落在特定长度标准之外的长度时,比较步骤是提供透明导电膜的至少一种表现性质将不符合要求的指示。
8.如权利要求1所述的方法,其包括基于不可接受数量(unacceptable number)的具有落在特定标准之外的长度的纳米线而拒绝印墨的使用。
9.如权利要求1所述的方法,其包括基于不可接受数量的具有落在特定标准之外的长度与直径的纳米线而拒绝印墨的使用。
10.如权利要求1所述的方法,其中纳米线具有导电金属。
11.如权利要求10所述的方法,其中纳米线是提供在透明导电膜内的互连网络(interconnected network)。
12.如权利要求11所述的方法,其包括分析基于预先确定标准(pre-determinedcriteria)的关联性(correlation),以预测在透明导电膜内的互联网络的表现。
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