[发明专利]曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其利用在第一时间内对被曝光基板上的第一曝光区域进行曝光的第一曝光、及在与所述第一时间不同的第二时间内对所述被曝光基板上的第二曝光区域进行曝光的第二曝光，对所述被曝光基板进行曝光，其特征在于，所述曝光装置包括：

照明光学系统，具有光学积分器，供给照明光；

投影光学系统；

基板载台，以规定图案在所述被曝光基板上得到曝光的方式，使所述被曝光基板相对于所述投影光学系统朝扫描方向进行相对移动；

照度变更构件，在设置于被入射所述照明光的入射面与所述被曝光基板的上表面变成共轭的位置的所述光学积分器的入射面侧，配置为相对于所述光学积分器能够相对移动，以将对第二区域进行曝光的曝光量与对第一区域进行曝光的曝光量的一者相对于另一者进行相对地变更的方式，变更所述照明光的照度，所述第二区域是所述被曝光基板上的所述第一曝光区域及所述第二曝光区域的各区域的一部分重复的区域，所述第一区域是所述第一曝光区域的其他部分及所述第二曝光区域的其他部分的区域；以及

控制部，控制所述照度变更构件相对于所述光学积分器的相对移动；

所述控制部以使所述第一区域中的曝光量相对于所述第二区域中的曝光量相对地变大的方式，使所述照度变更构件相对于所述光学积分器进行相对移动。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部在所述基板载台相对于所述投影光学系统的移动过程中，使所述照度变更构件相对于所述光学积分器进行相对移动。

3.一种曝光装置，其利用在第一时间内对被曝光基板上的第一曝光区域进行曝光的第一曝光、及在与所述第一时间不同的第二时间内对所述被曝光基板上的第二曝光区域进行曝光的第二曝光，对所述被曝光基板进行曝光，其特征在于，所述曝光装置包括：

照明光学系统，具有光学积分器，供给照明光；

投影光学系统；

基板载台，以规定图案在所述被曝光基板上得到曝光的方式，使所述被曝光基板相对于所述投影光学系统朝扫描方向进行相对移动；

照度变更构件，在设置于被入射所述照明光的入射面与所述被曝光基板的上表面变成共轭的位置的所述光学积分器的入射面侧，配置为相对于所述光学积分器能够相对移动，以变更对第二区域进行曝光的曝光量与对第一区域进行曝光的曝光量的另一者相对于一者的曝光量比的方式，变更所述照明光的照度，所述第二区域是所述被曝光基板上的所述第一曝光区域及所述第二曝光区域的各区域的一部分重复的区域，所述第一区域是所述第一曝光区域的其他部分及所述第二曝光区域的其他部分的区域；以及

控制部，控制所述照度变更构件相对于所述光学积分器的相对移动；

所述控制部在所述基板载台相对于所述投影光学系统的移动过程中，使所述照度变更构件相对于所述光学积分器进行相对移动。

4.一种曝光装置，其特征在于，包括：

投影光学系统；

照明光学系统，具有光学积分器，对所述投影光学系统供给照明光；

基板载台，以规定图案在被曝光基板上得到曝光的方式，使所述被曝光基板相对于所述投影光学系统朝扫描方向进行相对移动；

照度变更构件，相对于第一区域中的曝光量与第二区域中的曝光量的一者的曝光量，相对地变更另一者的曝光量，所述第一区域是在所述曝光中，通过所述投影光学系统的扫描曝光视场而在时间上连续地得到曝光的所述被曝光基板上的区域，所述第二区域是通过所述扫描曝光视场而在时间上离散地得到曝光的区域；以及

控制部，使所述照度变更构件相对于所述光学积分器，朝以光学方式对应于所述扫描方向的第一方向进行相对移动，所述光学积分器设置于所述照明光的入射面相对于所述被曝光基板上的所述扫描曝光视场变成共轭面的位置；

所述控制部以使所述第一区域中的曝光量相对于所述第二区域中的曝光量相对地变大的方式，使所述照度变更构件相对于所述光学积分器进行相对移动。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部在所述基板载台相对于所述投影光学系统的移动过程中，使所述照度变更构件相对于所述光学积分器进行相对移动。