[发明专利]曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法

说明书

曝光装置包括：照明光学系统，具有光学积分器；投影光学系统；基板载台，使被曝光基板相对于投影光学系统朝扫描方向进行相对移动；照度变更构件，配置为相对于光学积分器可相对移动，将对第二区域进行曝光的曝光量与对第一区域进行曝光的曝光量的一者相对于另一者相对地变更，第二区域是被曝光基板上的第一曝光区域及第二曝光区域的各区域的一部分重复的区域，第一区域是第一曝光区域的其他部分及第二曝光区域的其他部分的区域；以及控制部，以使第一区域中的曝光量相对于第二区域中的曝光量相对地变大的方式，使照度变更构件移动。

技术领域

本发明涉及一种曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法。

背景技术

作为用于将掩模上的图案原版曝光转印至大型基板的装置，已知有相对于投影光学系统对掩模及基板进行相对扫描来进行曝光的扫掠型曝光装置。通过扫掠曝光，曝光视场在扫掠方向(扫描方向)上扩大，但也已知有如下的曝光装置，其为了进而在与扫掠方向交叉的方向(非扫掠方向)上也扩大曝光视场，而使其曝光区域在非扫掠方向上重叠来进行多次扫掠曝光。

进而，也已知有如下的方法：在非扫掠方向上并列地包括多个投影光学系统，一面使多个投影光学系统进行曝光的曝光视场的一部分重叠一面进行曝光，由此利用一次扫描来将电子电路曝光转印至基板上(例如专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2016-54230号公报

发明内容

根据第一实施例，一种曝光装置，其利用在第一时间内对被曝光基板上的第一曝光区域进行曝光的第一曝光、及在与所述第一时间不同的第二时间内对所述被曝光基板上的第二曝光区域进行曝光的第二曝光，对所述被曝光基板进行曝光，所述曝光装置包括：照明光学系统，具有光学积分器，供给照明光；投影光学系统；基板载台，以规定图案在所述被曝光基板上得到曝光的方式，使所述被曝光基板相对于所述投影光学系统朝扫描方向进行相对移动；照度变更构件，在设置于被入射所述照明光的入射面与所述被曝光基板的上表面变成共轭的位置的所述光学积分器的入射面侧，配置为相对于所述光学积分器可相对移动，以将对第二区域进行曝光的曝光量与对第一区域进行曝光的曝光量的一者相对于另一者进行相对地变更的方式，变更照明光的照度，所述第二区域是所述被曝光基板上的所述第一曝光区域及所述第二曝光区域的各区域的一部分重复的区域，所述第一区域是所述第一曝光区域的其他部分及所述第二曝光区域的其他部分的区域；以及控制部，控制所述照度变更构件相对于所述光学积分器的相对移动；所述控制部以使所述第一区域中的曝光量相对于所述第二区域中的曝光量相对地变大的方式，使所述照度变更构件相对于所述光学积分器进行相对移动。

根据第二实施例，一种曝光装置，其利用在第一时间内对被曝光基板上的第一曝光区域进行曝光的第一曝光、及在与所述第一时间不同的第二时间内对所述被曝光基板上的第二曝光区域进行曝光的第二曝光，对所述被曝光基板进行曝光，所述曝光装置包括：照明光学系统，具有光学积分器，供给照明光；投影光学系统；基板载台，以规定图案在所述被曝光基板上得到曝光的方式，使所述被曝光基板相对于所述投影光学系统朝扫描方向进行相对移动；照度变更构件，在设置于被入射所述照明光的入射面与所述被曝光基板的上表面变成共轭的位置的所述光学积分器的入射面侧，配置为相对于所述光学积分器可相对移动，以变更对第二区域进行曝光的曝光量与对第一区域进行曝光的曝光量的另一者相对于一者的曝光量比的方式，变更照明光的照度，所述第二区域是所述被曝光基板上的所述第一曝光区域及所述第二曝光区域的各区域的一部分重复的区域，所述第一区域是所述第一曝光区域的其他部分及所述第二曝光区域的其他部分的区域；以及控制部，控制所述照度变更构件相对于所述光学积分器的相对移动；所述控制部在所述基板载台相对于所述投影光学系统的移动过程中，使所述照度变更构件相对于所述光学积分器进行相对移动。