[发明专利]真空泵送装置以及真空泵送方法

权利要求书

1.一种真空泵送装置，包括：

公共泵送管线，所述公共泵送管线具有泵送管线出口和多个泵送管线入口，每个泵送管线入口被构造成与相关联的多个真空处理室的出口联接；

至少一个初级真空泵，其与所述泵送管线出口流体连通以从每个真空处理室泵送气体；以及

控制逻辑，所述控制逻辑能够操作以响应于所述多个真空处理室的操作状态的指示而控制所述初级真空泵的操作。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述控制逻辑能够操作以响应于所述指示改变所述初级真空泵的操作速度。

3.根据权利要求2所述的装置，其中所述控制逻辑能够操作以改变所述初级真空泵的操作速度，以使所述初级真空泵的气体泵送速率与来自所述多个真空处理室的指示气体流率匹配。

4.根据权利要求1或2所述的装置，包括多个初级真空泵，并且其中所述控制逻辑能够操作以响应于所述指示停用所述初级真空泵中的至少一个。

5.根据权利要求1所述的装置，其中可操作控制逻辑能够操作以响应于所述指示来控制下游装置的操作。

6.根据权利要求5所述的装置，其中所述下游装置包括减排装置。

7.根据权利要求6所述的装置，其中所述可操作控制逻辑能够操作以响应于所述指示而改变供应至所述减排装置的能量的量。

8.根据权利要求6或7所述的装置，其中所述可操作控制逻辑能够操作以响应于所述指示而改变供应到所述初级真空泵、次级真空泵和所述减排装置中的至少一者的稀释气体的量。

9.根据权利要求1或2所述的装置，其中，所述指示由所述多个真空处理室和供应所述多个真空处理室的装置中的至少一者提供。

10.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述指示指示通过所述多个真空处理室的气体流率。

11.根据权利要求1或2所述的装置，其中，所述指示由与相应的泵送管线入口联接的压力传感器和流量控制阀中的至少一者提供。

12.根据权利要求1或2所述的装置，包括联接在所述入口和真空处理室之间的次级真空泵，并且所述指示由所述次级真空泵的功率消耗和速度中的一者提供。

13.根据权利要求1或2所述的装置，包括：至少一个另外的公共泵送管线，每个另外的公共泵送管线具有泵送管线出口以及多个泵送管线入口，每个泵送管线入口被构造为与相关联的多个真空处理室的出口联接；以及至少一个另外的初级真空泵，其与所述泵送管线出口流体连通以从每个真空处理室泵送气体。

14.根据权利要求1或2所述的装置，包括歧管，所述歧管能够操作以选择性地将每个真空处理室与所述公共泵送管线联接，并且其中所述指示提供所述歧管的构造的指示。

15.一种真空泵送方法，包括：

将公共泵送管线的多个泵送管线入口与相关联的多个真空处理室的出口联接；

将所述公共泵送管线的泵送管线出口与至少一个初级真空泵联接，以从每个真空处理室泵送气体；以及

响应于所述多个真空处理室的操作状态的指示而控制所述初级真空泵的操作。