[发明专利]平台系统和光刻装置

权利要求书

1.一种平台系统，包括：

平台，相对于基准结构能够移动，其中所述平台和所述基准结构中的一个包括反射表面，

光学位置传感器，被布置在所述平台和所述基准结构中的另一个处，并且所述光学位置传感器被配置成确定所述反射表面相对于所述光学位置传感器的位置，以及

光学形状传感器，被配置成确定所述反射表面的形状。

2.根据权利要求1所述的平台系统，还包括位置测量控制器，被配置成：

从所述反射表面相对于所述光学位置传感器的所述位置以及从由所述光学形状传感器确定的所述反射表面的所述形状，导出所述平台的平台位置。

3.根据权利要求1或2所述的平台系统，其中所述位置测量控制器被配置成：

从所确定的所述反射表面相对于所述光学位置传感器的位置，导出所述平台的初始平台位置；

从所述初始平台位置导出所述光学位置传感器的光束在所述反射表面上的入射区域，以及

通过使用在所述入射区域处的所述反射表面的所述形状校正所述初始平台位置，导出所述平台位置。

4.根据权利要求3所述的平台系统，其中使用光线跟踪模型导出所述入射区域。

5.根据权利要求3或4中任一项所述的平台系统，其中使用在所述入射区域处的所述反射表面的所述形状校正所述初始平台位置包括：执行平移校正。

6.根据权利要求3-5中任一项所述的平台系统，其中使用在所述入射区域处的所述反射表面的所述形状校正所述初始平台位置包括：执行旋转校正。

7.根据权利要求2-6中任一项所述的平台系统，其中位置测量控制器被配置成：从由所述光学形状传感器的另外测量与所确定的所述反射表面的形状的比较，导出所述平台的倾斜。

8.根据权利要求3-7中任一项所述的平台系统，其中所述反射表面的形状被存储在所述位置测量控制器的存储器中，所述位置测量控制器被配置成：通过使用所存储的在所述入射区域处的所述反射表面的形状校正所述初始平台位置，导出所述平台位置。

9.根据前述权利要求中任一项所述的平台系统，其中所述光学位置传感器被配置成：将位置测量光束引导在所述反射表面的位置测量光束入射区域，并且其中所述光学形状传感器被配置成：将形状测量光束引导在形状测量光束入射区域，并且其中所述位置测量光束入射区域和所述形状测量光束入射区域重叠。

10.根据权利要求9所述的平台系统，其中所述平台还包括相对于所述平台的主移动平面在45度下延伸的另外反射表面，所述光学位置传感器包括基本平行于所述平台的所述主移动平面延伸的位置传感器目标反射镜，其中所述光学位置传感器和所述光学形状传感器被配置成：将相应的另外测量光束投影到在所述另外反射表面上重叠的相应的另外入射区域上。

11.根据权利要求1-8中任一项所述的平台系统，其中所述光学位置传感器被配置成：将位置测量光束引导在所述反射表面的位置测量光束入射区域，并且其中所述光学形状传感器被配置成：将形状测量光束引导在形状测量光束入射区域，并且其中所述位置测量光束入射区域和所述形状测量光束入射区域在沿着所述平台的主移动平面的方向上相互间隔开。

12.根据权利要求11所述的平台系统，其中所述平台还包括相对于所述平台的主移动平面在45度下延伸的另外反射表面，所述光学位置传感器包括基本平行于所述平台的所述主移动平面延伸的位置传感器目标反射镜，其中所述光学位置传感器和所述光学形状传感器被配置成：将相应的另外测量光束投影到所述另外反射表面上的相应的另外入射区域上，所述相应的另外入射区域在沿着所述平台的主移动平面的所述方向上相互间隔开。