[发明专利]气化器的清洗方法及气化装置

权利要求书

1.一种气化器的清洗方法，其使常温常压下呈液体状的原料在气化器进行气化，并使该气化后的原料在供给管路中向反应部供给，

其特征在于，

所述气化器的清洗方法包括清洗工序，在该清洗工序中，使所述原料一边维持为液体状，一边在所述气化器流动而清洗所述气化器。

2.根据权利要求1所述的气化器的清洗方法，其特征在于，

所述气化器的清洗方法还包括将所述原料与载气混合而生成混合流体的混合工序，

在所述清洗工序中，一边使所述混合流体的所述原料维持为液体状，一边使所述混合流体在所述气化器流动而清洗所述气化器。

3.根据权利要求1或2所述的气化器的清洗方法，其特征在于，

将在所述清洗工序中已用于清洗的所述液体状的原料的至少一部分再次向所述气化器送出而清洗所述气化器。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的气化器的清洗方法，其特征在于，

在所述清洗工序中，使所述原料一边维持为液体状一边在所述供给管路中流动而清洗所述供给管路。

5.根据权利要求4所述的气化器的清洗方法，其特征在于，

在所述清洗工序中，使所述液体状的原料从所述气化器向位于所述气化器的铅垂下方侧的所述供给管路流动。

6.根据权利要求1所述的气化器的清洗方法，其特征在于，

利用泵将所述液体状的原料向所述气化器加压输送。

7.一种气化装置，其特征在于，

所述气化装置具备：

贮存器，其贮存常温常压下呈液体状的原料；

混合装置，其将所述液体状的原料与载气混合；

气化器，其使从所述混合装置供给的所述液体状的原料气化；

供给管路，其将由所述气化器气化后的所述原料与所述载气的混合流体向外部供给；以及

回流结构，其使液体状的所述原料从所述气化器向所述贮存器回流。

8.根据权利要求7所述的气化装置，其特征在于，

所述回流结构相对于所述气化器而位于铅垂下方侧。

9.根据权利要求7或8所述的气化装置，其特征在于，

所述气化装置还具备泵，该泵从所述贮存器将液体状的所述原料不经由所述混合装置而向所述气化器加压输送。