[发明专利]气化器的清洗方法及气化装置

说明书

本发明的目的在于，提供一种即使产生原料的聚合物也能够简易除去的气化器的清洗方法及气化装置。气化器的清洗方法，使在常温常压下呈液体状的原料在气化器进行气化，使该气化后的原料在供给管路中向反应部供给，其中，所述气化器的清洗方法包括清洗工序，在该清洗工序中，使所述原料一边维持为液体状，一边在所述气化器流动而清洗所述气化器。也可以为，所述气化器的清洗方法还包含将所述原料与载气混合而生成混合流体的混合工序，在所述清洗工序中，一边使所述混合流体的所述原料维持为液体状，一边使所述混合流体在所述气化器流动而清洗所述气化器。

技术领域

本发明涉及一种使液体原料气化的气化器的清洗方法及气化装置。

背景技术

以往，已知使液体原料气化并使该气化了的原料发生化学反应的制造工序。例如，在光纤的制造工序中，存在以下工序：对作为硅的液体原料的硅氧烷系材料进行气化，使该气化了的原料在反应部通过燃烧器发生火焰水解反应而生成玻璃微粒。

例如，在专利文献1中，将液体状的硅氧烷系材料作为原料而与载气一同地导入至气化器，实施原料的气化。另外，专利文献2公开以下内容：将液体状的硅氧烷系材料朝向加热侧面后的膨胀槽的该侧面导入而气化，将气化了的硅氧烷系材料作为原料利用，使未气化的硅氧烷系材料留存于膨胀槽的下层而流向贮存部。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本国特开2017-36172号公报

专利文献2：日本国特表2014-517801号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，在专利文献1的方法中，当气化器的出口以后的路径不能维持为规定的温度时，会发生硅氧烷系材料的液化。其结果是，存在反复发生液化的硅氧烷系材料的聚合而生成聚合物并堆积于气化器内的情况。当这样的堆积发展时，存在由于气化器内的压力损失增加而不能够确保期望的原料流量的情况。并且，一旦气化器内产生有聚合物，则为了除去它需要作业时间，因此存在气化器、具备气化器的气化装置的运行成本变高的这一问题。需要说明的是，在供给管路中也可能发生这样的聚合物的堆积。

与之相对，专利文献2的方法虽然能够容易地将聚合物除外而仅输送气化后的原料，但气化器的规模变大却不能高效地使液体原料气化，因此存在材料成本变高这一问题。

本发明鉴于上述情况而完成，其目的在于，提供一种即使产生原料的聚合物也能够简易除去的气化器的清洗方法及气化装置。

用于解决课题的方案

为了解决上述课题而达成目的，本发明的一方案涉及一种气化器的清洗方法，使常温常压下呈液体状的原料在气化器进行气化，并使该气化后的原料在供给管路中向反应部供给其特征在于，所述气化器的清洗方法包括清洗工序，在该清洗工序中，使所述原料一边维持为液体状，一边在所述气化器流动而清洗所述气化器。

本发明的一方案的气化器的清洗方法的特征在于，其还包括将所述原料与载气混合而生成混合流体的混合工序，在所述清洗工序中，一边使所述混合流体的所述原料维持为液体状，一边使所述混合流体在所述气化器流动而清洗所述气化器。

本发明的一方案的气化器的清洗方法的特征在于，将在所述清洗工序中已用于清洗的所述液体状的原料的至少一部分再次向所述气化器送出而清洗所述气化器。

本发明的一方案的气化器的清洗方法的特征在于，在所述清洗工序中，使所述原料一边维持为液体状一边在所述供给管路中流动而清洗所述供给管路。

本发明的一方案的气化器的清洗方法的特征在于，在所述清洗工序中，使所述液体状的原料从所述气化器向位于所述气化器的铅垂下方侧的所述供给管路流动。