[发明专利]计量方法和设备、计算机程序和光刻系统在审
申请号: | 202080020911.4 | 申请日: | 2020-02-26 |
公开(公告)号: | CN113574458A | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | A·奥诺塞;R·德克斯;R·H·E·C·博施;S·S·A·M·雅各布斯;F·J·布杰恩斯特斯;S·T·德兹瓦特;A·帕尔哈·达·希尔瓦·克莱里戈;N·弗赫尔 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 赵林琳 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 计量 方法 设备 计算机 程序 光刻 系统 | ||
1.一种确定重构方案的方法,所述重构方案至少描述用于在描述目标的参数化的重构中使用的标称值;所述方法包括:
获取与至少一个衬底上的多个目标的测量相关的第一测量数据,所述测量数据与一个或多个获取设置相关;
通过使成本函数最小化来执行优化,所述成本函数基于所述多个目标中的每个目标的重构参数化来使所述第一测量数据与经仿真的测量数据之间的差异最小化;
其中所述成本函数上的约束基于分层先验而被施加。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述分层先验对关于所述参数的尺度的先验信息进行编码。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述分层先验对所述经重构的参数化中的参数值与从参考工具获取的对应的经实验测量的参数值的差异施加约束。
4.根据权利要求3所述的方法,其中对所述经重构的参数化中的参数值与对应的经实验获取的参数值的差异的所述约束允许不精确匹配以考虑统计误差,所述统计误差影响所述第一测量数据。
5.根据权利要求3或4所述的方法,其中所述方法还输出工具匹配数据,所述工具匹配数据描述在所述第一测量数据相对于来自所述参考工具的对应的经实验获取的测量数据之间的关系。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中第一正则化被施加在所述分层先验上。
7.根据权利要求6所述的方法,其中所述第一正则化通过优选具有最小数目的变化参数的解来确定固定浮动策略。
8.根据权利要求6或7所述的方法,其中所述第一正则化是L1范数正则化。
9.根据权利要求6、7或8所述的方法,包括针对所述第一正则化的不同强度使所述成本函数最小化。
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法,包括将所述成本函数的解的统计特性与单目标重构的解的统计特性相匹配,其中对所述单目标重构施加的第二正则化的强度被迭代地确定。
11.根据权利要求10所述的方法,其中所述确定所述第二正则化的所述强度包括使多个目标上的所述单目标重构的解的参数分布与所述成本函数的解的参数分布之间的差异最小化。
12.根据权利要求10或11所述的方法,其中描述来自经匹配的所述单目标重构的参数值的性能的一个或多个性能指标被评估,并且与最佳性能指标相对应的重构方案被选择作为经确定的重构方案。
13.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述分层先验施加有利于感兴趣区域的约束,所述感兴趣区域描述有效物理参数化。
14.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述分层先验施加一致性约束,所述一致性约束有利于针对多个目标上的高度相关参数的一致性。
15.根据权利要求14所述的方法,其中所述一致性约束至少与材料特性参数相关,其中能够假定所述材料特性在目标之间将不显著变化。
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