[发明专利]电子装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 202080020913.3 申请日: 2020-02-27
公开(公告)号: CN113574659A 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 三浦彻;栗原宏嘉 申请(专利权)人: 三井化学东赛璐株式会社
主分类号: H01L23/12 分类号: H01L23/12;C09J123/00;C09J125/04;C09J133/00;C09J175/04;C09J183/04;H01L21/56;C09J7/38
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 陈彦;郭玫
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 电子 装置 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种电子装置的制造方法,其至少具备下述工序:

准备具备粘着性膜、电子部件和支撑基板的结构体的准备工序;以及

通过密封材将所述电子部件进行密封的密封工序,

所述粘着性膜具备:

基材层;

设置于所述基材层的第1面侧,且用于将电子部件进行临时固定的粘着性树脂层(A);

设置于所述基材层的第2面侧,且通过外部刺激而粘着力降低的粘着性树脂层(B);以及

设置于所述基材层与所述粘着性树脂层(A)之间或所述基材层与所述粘着性树脂层(B)之间的凹凸吸收性树脂层(C),

所述电子部件粘贴于所述粘着性膜的所述粘着性树脂层(A)上,并且具有凹凸结构,

所述支撑基板粘贴于所述粘着性膜的所述粘着性树脂层(B)上。

2.根据权利要求1所述的电子装置的制造方法,所述凹凸吸收性树脂层(C)至少设置于所述基材层与所述粘着性树脂层(A)之间。

3.根据权利要求1或2所述的电子装置的制造方法,所述电子部件的所述凹凸结构包括凸块电极。

4.根据权利要求3所述的电子装置的制造方法,在将所述凸块电极的高度设为H[μm],将所述凹凸吸收性树脂层的厚度设为d[μm]时,H/d为0.01以上1以下。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的电子装置的制造方法,所述凹凸吸收性树脂层包含热塑性树脂。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的电子装置的制造方法,所述凹凸吸收性树脂层的厚度为10μm以上1000μm以下。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的电子装置的制造方法,其在所述密封工序之后,进一步具备第1剥离工序:通过赋予外部刺激,从而使所述粘着性树脂层(B)的粘着力降低以从所述结构体剥离所述支撑基板。

8.根据权利要求7所述的电子装置的制造方法,其在所述第1剥离工序之后,进一步具备第2剥离工序:从所述电子部件剥离所述粘着性膜。

9.根据权利要求1~8中任一项所述的电子装置的制造方法,所述密封材为环氧树脂系密封材。

10.根据权利要求1~9中任一项所述的电子装置的制造方法,构成所述粘着性树脂层(A)的粘着性树脂包含选自(甲基)丙烯酸系粘着性树脂、有机硅系粘着性树脂、氨基甲酸酯系粘着性树脂、烯烃系粘着性树脂和苯乙烯系粘着性树脂中的一种或两种以上。

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