[发明专利]正型光敏聚硅氧烷组合物

说明书

[课题]提供一种即使不进行固化助剂的添加或全曝光，也能制造褶皱的产生得到抑制且表面平滑性高的固化膜的正型光敏聚硅氧烷组合物。[技术方案]一种正型光敏聚硅氧烷组合物，包含：(I)聚硅氧烷，(II)组合物总质量的200～50000ppm的羧酸化合物，即一元羧酸或二羧酸，(III)重氮萘醌衍生物，和(IV)溶剂，以及使用该组合物制造固化膜的方法。

技术领域

本发明涉及正型光敏聚硅氧烷组合物。此外，本发明涉及使用该正型光敏聚硅氧烷组合物制造固化膜的方法，以及包括该固化膜的电子器件。

背景技术

近年来，已经提出了各种建议针对进一步提高显示器、发光二极管和太阳能电池等光学器件中的光利用效率以及节能。例如，在液晶显示器中，已知这样一种方法，即，在TFT器件上涂覆透明平坦化膜并且在该平坦化膜上形成像素电极以提高显示装置的开口率。

作为用于TFT基板的平坦化膜的材料，已知将丙烯酸树脂和醌二叠氮化物化合物组合而成的材料。这些材料具有平坦化性能和光敏性，因此可以制作出接触孔和其他图案。然而，随着分辨率和帧频的提高，布线变得更加复杂，使得平坦化变得困难并且难以处理这些材料。

作为高耐热性、高透明性材料已知聚硅氧烷，特别是倍半硅氧烷。倍半硅氧烷是由三官能硅氧烷结构单元RSi(O_1.5)组成的聚合物，在化学结构上，其介于无机二氧化硅(SiO₂)和有机硅氧烷(R₂SiO)的中间，但其是可溶于有机溶剂，且其固化产物表现出无机二氧化硅的特征性的高耐热性的特殊化合物。

使用包括这种聚硅氧烷和光敏剂的正型光敏组合物，通过曝光和显影形成图案，并加热，可以形成固化膜。这样形成的固化膜中，膜表面不平坦，并且有可能产生褶皱。然后，为了抑制褶皱的产生，可以添加固化助剂，并且可以在曝光和显影之后，进行全曝光。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开第2011-2517号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明是基于上述情况完成，并且目的在于提供一种即使不进行固化助剂的添加或全曝光，也能制造褶皱的产生得到抑制且表面平滑性高的固化膜的正型光敏聚硅氧烷组合物。本发明的另一个目的是提供一种使用该正型光敏聚硅氧烷组合物制造固化膜的方法。

用于解决课题的手段

根据本发明的正型光敏聚硅氧烷组合物包含：

(I)聚硅氧烷，

(II)组合物总质量的200～50000ppm的羧酸化合物，即一元羧酸或二羧酸，

(III)重氮萘醌衍生物，和

(IV)溶剂。

此外，根据本发明的固化膜的制造方法包括以下步骤：

(1)将根据本发明的正型光敏聚硅氧烷组合物涂覆于基材，以形成组合物层，

(2)使所述组合物层曝光，

(3)用碱性显影剂显影以形成图案，和

(4)加热所得的图案。

此外，根据本发明的电子器件包括通过上述方法制造的固化膜。

发明的效果