[发明专利]曝光系统、曝光装置以及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光系统，其是对基板上的包含感光性保护基团的层进行曝光、在所述层中形成包含亲液区域和疏液区域的亲液/疏液图案的曝光系统，其中，具备：

曝光装置，对所述层进行曝光；

检查装置，以非接触方式对被所述曝光装置曝光的区域进行检查；以及

控制装置，基于所述检查装置的检查结果，对所述曝光系统中包含的装置中的任意一个以上的装置进行控制。

2.如权利要求1所述的曝光系统，其中，所述区域是表面状态通过所述曝光发生了变化的区域。

3.如权利要求1或权利要求2所述的曝光系统，其中，所述检查装置对所述区域的膜厚、质量、原子力或特定波长的吸收中的任一者以上进行检查。

4.一种曝光系统，其是对在基板上形成的包含具有感光性保护基团的化合物的层进行曝光、形成包含亲液区域和疏液区域的亲液/疏液图案的曝光系统，其中，具备：

曝光装置，对所述包含具有感光性保护基团的化合物的层进行曝光；

检查装置，在每一测定点获取被所述曝光装置曝光的区域中的关于所述感光性保护基团的脱离量的信息；以及

控制装置，具有基于被所述曝光装置曝光的区域中包含的所述测定点的所述信息来判断所述曝光是否良好的判断部。

5.如权利要求4所述的曝光系统，其中，所述判断部基于每单位面积的所述信息来判断所述曝光是否良好。

6.如权利要求4或权利要求5所述的曝光系统，其中，在所述判断部判断为曝光不良的情况下，所述控制装置基于所述信息对所述曝光装置进行控制。

7.如权利要求6所述的曝光系统，其中，所述控制装置对所述曝光装置的控制包括变更所述曝光装置在曝光时的曝光光的强度、变更所述曝光光的焦点位置、变更所述曝光光的照射时间、以及变更所述曝光光的重叠量中的至少一者。

8.如权利要求4至7中任一项所述的曝光系统，其中，具备包括利用所述曝光装置进行的曝光时在内对所述基板进行传送的传送装置。

9.如权利要求8所述的曝光系统，其中，所述检查装置在所述传送装置对所述基板的传送方向上配置在所述曝光装置的下游侧。

10.如权利要求8或9所述的曝光系统，其中，在所述判断部判断为曝光不良的情况下，所述控制装置基于所述信息控制所述传送装置对所述基板的传送速度。

11.如权利要求8～10中任一项所述的曝光系统，其中，在所述传送装置对所述基板的传送方向上在所述检查装置的下游侧具备第2曝光装置。

12.如权利要求11所述的曝光系统，其中，在所述判断部判断为曝光不良的情况下，所述控制装置基于所述信息利用所述第2曝光装置对所述层进行再次曝光。

13.如权利要求5至12中任一项所述的曝光系统，其中，在所述传送装置对所述基板的传送方向上在所述检查装置的下游侧具备对形成有所述亲液/疏液图案的所述基板进行镀覆处理的镀覆装置。

14.如权利要求13所述的曝光系统，其中，在所述判断部判断为曝光不良的情况下，所述控制装置基于所述信息对所述镀覆装置进行控制。

15.如权利要求14所述的曝光系统，其中，包括：在所述判断部判断为曝光不良的情况下，所述控制装置基于所述信息来变更所述层在所述镀覆装置中的镀覆催化剂浴和镀覆浴中的至少一者中的浸渍时间。

16.如权利要求4至15中任一项所述的曝光系统，其中，所述检查装置通过被所述曝光装置曝光的区域中的吸光度来获取所述信息。