[发明专利]曝光系统、曝光装置以及曝光方法

说明书

[课题]在对具有感光性保护基团的化合物的层进行曝光而形成亲液/疏液图案后、在形成布线图案前，判断保护基团的脱离是否充分。[解决手段]一种曝光系统，其是对基板上的包含感光性保护基团的层进行曝光，在层中形成包含亲液区域和疏液区域的亲液/疏液图案的曝光系统，其中，具备：曝光装置，对层进行曝光；检查装置，以非接触方式对被曝光装置曝光的区域进行检查；以及控制装置，基于检查装置的检查结果，对曝光系统中包含的装置中的任意一个以上的装置进行控制。

技术领域

本发明涉及曝光系统、曝光装置以及曝光方法。

背景技术

近年来，在半导体元件、集成电路、有机EL显示器用器件等微细器件等的制造中，提出了在基板上形成表面特性不同的图案、利用其表面特性的差异来制作微细器件的方法。

作为利用基板上的表面特性的差异的图案形成方法，例如有下述方法：在基板上形成亲水区域和疏水区域，在亲水区域涂布功能性材料的水溶液。该方法中，功能性材料的水溶液仅在亲水区域中润湿铺展，因此能够形成功能性材料的图案。

作为能够在基板上形成亲水区域和疏水区域的材料，例如专利文献1中记载了一种在光照射前后能够使接触角发生变化的含氟化合物。对这样的化合物进行光照射后，为了将功能性材料良好地涂布于亲水区域，优选能够判断是否对该化合物进行了充分的光照射。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4997765号公报

发明内容

根据本发明的第1方式，提供一种曝光系统，其是对基板上的包含感光性保护基团的层进行曝光、在层中形成包含亲液区域和疏液区域的亲液/疏液图案的曝光系统，其中，具备：曝光装置，对层进行曝光；检查装置，以非接触方式对被曝光装置曝光的区域进行检查；以及控制装置，基于检查装置的检查结果，对曝光系统中包含的装置中的任意一个以上的装置进行控制。另外，提供一种曝光系统，其是对在基板上形成的包含具有感光性保护基团的化合物的层进行曝光、形成包含亲液区域和疏液区域的亲液/疏液图案的曝光系统，其中，具备：曝光装置，对包含具有感光性保护基团的化合物的层进行曝光；检查装置，在每一测定点获取被曝光装置曝光的区域中的关于感光性保护基团的脱离量的信息；以及控制装置，具有基于被曝光装置曝光的区域中包含的测定点的信息来判断曝光是否良好的判断部。

根据本发明的第2方式，提供一种曝光装置，其是对在基板上形成的包含具有感光性保护基团的化合物的层进行曝光、形成包含亲液区域和疏液区域的亲液/疏液图案的曝光装置，其中，具备：曝光部，对包含具有感光性保护基团的化合物的层进行曝光；检查部，在每一测定点获取被曝光部曝光的区域中的关于感光性保护基团的脱离量的信息；以及控制部，具有基于被曝光部曝光的区域中包含的测定点的信息来判断曝光是否良好的判断部。

根据本发明的第3方式，提供一种曝光方法，其是对在基板上形成的包含具有感光性保护基团的化合物的层进行曝光、形成包含亲液区域和疏液区域的亲液/疏液图案的曝光方法，其中，包括：对包含具有感光性保护基团的化合物的层进行曝光；在每一测定点获取被曝光的区域中的关于感光性保护基团的脱离量的信息；以及基于被曝光的区域中包含的测定点的信息来判断曝光是否良好。

附图说明

图1是示出第1实施方式的曝光系统的一例的图。

图2(A)和图2(B)是示出利用原子力显微镜得到的测定结果的一例的图像。

图3(A)和图3(B)是示意性地示出基于脱离量相关信息来判断曝光是否良好的过程的一例的图。

图4是示出利用第1实施方式的曝光系统的曝光方法的一例的流程图。

图5是示出利用第1实施方式的曝光系统的曝光方法的另一例的流程图。

图6是示出利用第1实施方式的曝光系统的曝光方法的另一例的流程图。