[发明专利]气体分析装置以及气体分析装置的控制方法

权利要求书

1.一种气体分析装置，对流入的样品气体进行分析，所述气体分析装置具有：

过滤器单元，其对所述样品气体进行过滤；

检测器单元，其对过滤的结果进行检测；

壳体，其收纳所述过滤器单元和所述检测器单元；以及

控制单元，其对所述过滤器单元、所述检测器单元以及所述壳体的电位进行控制，

其中，所述控制单元包括清洁控制单元，所述清洁控制单元将所述过滤器单元、所述检测器单元以及所述壳体的电位设定为清洁电位来代替分析过程中的将离子导向所述检测器单元的电位，所述清洁电位为引入所述样品气体的供给源的工艺等离子体或由等离子体生成单元生成的等离子体来作为清洁用的等离子体的电位，

所述清洁电位包括以在所述过滤器单元、所述检测器单元以及所述壳体分别形成朝向所述壳体引入等离子体的电压梯度的方式设定的电位。

2.根据权利要求1所述的气体分析装置，其中，

所述清洁控制单元将所述壳体设定为作为所述清洁电位的负电位。

3.根据权利要求1所述的气体分析装置，其中，

具有所述等离子体生成单元。

4.根据权利要求1所述的气体分析装置，其中，

所述清洁控制单元包括在所述样品气体的供给源生成工艺等离子体的定时设定为所述清洁电位的单元。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的气体分析装置，其中，

具有将所述样品气体离子化的离子化单元，

所述过滤器单元包括对被离子化的所述样品气体进行过滤的单元。

6.根据权利要求5所述的气体分析装置，其中，

所述离子化单元包括热电子供给单元，

所述清洁控制单元包括将所述离子化单元的电位设定为所述清洁电位的单元。

7.根据权利要求5所述的气体分析装置，其中，

所述离子化单元包括所述等离子体生成单元。

8.一种气体分析装置的控制方法，所述气体分析装置对流入的样品气体进行分析，

所述气体分析装置具有：过滤器单元，其对所述样品气体进行过滤；检测器单元，其对过滤的结果进行检测；壳体，其收纳所述过滤器单元和所述检测器单元；以及控制单元，其对所述过滤器单元、所述检测器单元以及所述壳体的电位进行控制，

所述气体分析装置的控制方法包括以下步骤：所述控制单元将所述过滤器单元、所述检测器单元以及所述壳体的电位设定为清洁电位来代替分析过程中的将离子导向所述检测器单元的电位，所述清洁电位为引入所述样品气体的供给源的工艺等离子体或由等离子体生成单元生成的等离子体来作为清洁用的等离子体的电位，

所述清洁电位包括以在所述过滤器单元、所述检测器单元以及所述壳体分别形成朝向所述壳体引入等离子体的电压梯度的方式设定的电位。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，

设定为所述清洁电位的步骤包括将所述壳体设定为作为所述清洁电位的负电位的步骤。

10.根据权利要求8所述的方法，其中，

所述气体分析装置包括等离子体生成单元，

所述气体分析装置的控制方法包括以下步骤：所述等离子体生成单元与设定为所述清洁电位的步骤并行地生成清洁用等离子体。

11.根据权利要求8所述的方法，其中，

设定为所述清洁电位的步骤包括在所述样品气体的供给源生成工艺等离子体的定时设定为所述清洁电位的步骤。

12.根据权利要求8至11中的任一项所述的方法，其中，

所述气体分析装置具有将所述样品气体离子化的离子化单元，所述过滤器单元包括对被离子化的所述样品气体进行过滤的单元，

设定为所述清洁电位的步骤包括将所述离子化单元的电位设定为所述清洁电位的步骤。

13.一种记录介质，记录有程序，所述程序用于控制对流入的样品气体进行分析的气体分析装置，

所述气体分析装置具有：过滤器单元，其对所述样品气体进行过滤；检测器单元，其对过滤的结果进行检测；壳体，其收纳所述过滤器单元和所述检测器单元；以及控制单元，其对所述过滤器单元、所述检测器单元以及所述壳体的电位进行控制，

所述程序具有以下命令：由所述控制单元将所述过滤器单元、所述检测器单元以及所述壳体的电位设定为清洁电位来代替分析过程中的将离子导向所述检测器单元的电位，所述清洁电位为引入所述样品气体的供给源的工艺等离子体或由等离子体生成单元生成的等离子体来作为清洁用的等离子体的电位，

所述清洁电位包括以在所述过滤器单元、所述检测器单元以及所述壳体分别形成朝向所述壳体引入等离子体的电压梯度的方式设定的电位。