[发明专利]气体分析装置以及气体分析装置的控制方法

说明书

提供一种对流入的样品气体(9)进行分析的气体分析装置(1)。气体分析装置具有：过滤器单元(20)，其对样品气体进行过滤；检测器单元(30)，其对过滤的结果进行检测；壳体(40)，其收纳这些单元；以及控制单元(60)，其对各单元的电位进行控制。控制单元包括清洁控制单元(61)，该清洁控制单元(61)将过滤器单元、检测器单元以及壳体的电位设定为清洁电位，该清洁电位为引入样品气体的供给源的工艺等离子体(75)或由等离子体生成单元(50)生成的等离子体(55)来作为清洁用的等离子体的电位。

技术领域

本发明涉及一种具备清洁功能的气体分析装置。

背景技术

在日本特开2012-3976号公报中公开了一种提供低成本的四极杆质谱仪的技术，该四极杆质谱仪不需要另外的电源，能够通过电子冲击方式有效地对栅格进行脱气处理。一种具有离子源、四极部以及离子检测部的装置，其中，所述离子源具备灯丝和栅格，所述四极部是沿周向以规定间隔配置四根圆柱状的电极而形成的，所述离子检测部捕获通过了四极部的规定的离子，所述装置还具备：对灯丝通入直流电流的电源；对栅格施加比灯丝高的电位的电源；为了在栅格与灯丝之间形成规定的电位差而对灯丝施加规定的电位的电源；对四极部的相对的电极施加由正、负的直流电压以及交流电压叠加而成的电压的电源；以及控制单元，所述装置构成为能够经由四极部用的电源对栅格施加与正、负两电压之间的电位差相当的电压。

发明内容

在半导体制造工艺的监视等应用中，寻求一种能够对含有多种多样的气体的各种环境进行监视的耐性高的传感器。

本发明的一个方式是一种对流入的样品气体进行分析的气体分析装置。该装置具有：过滤器单元，其对样品气体进行过滤；检测器单元，其对过滤的结果进行检测；壳体，其收纳过滤器单元和检测器单元；以及控制单元，其对过滤器单元、检测器单元以及壳体的电位进行控制。控制单元包括清洁控制单元，该清洁控制单元将过滤器单元、检测器单元以及壳体的电位设定为清洁电位，该清洁电位为引入样品气体的供给源的工艺等离子体或由等离子体生成单元生成的等离子体来作为清洁用的等离子体的电位。清洁电位也可以是接地电位或负电位。通过定期地或者在适当的定时包括壳体在内将气体分析装置设定为清洁电位，能够引入等离子体，并利用等离子体对气体分析装置内进行清洁。

气体分析装置也可以具有等离子体生成单元。清洁控制单元也可以包括在样品气体的供给源生成工艺等离子体的定时设定为清洁电位的单元。

气体分析装置也可以具有将样品气体离子化的离子化单元，过滤器单元也可以包括对被离子化的样品气体进行过滤的单元。代表性的过滤器单元的一例是根据质荷比对被离子化的样品气体进行过滤的单元。离子化单元也可以包括热电子供给单元，清洁控制单元既可以包括将离子化单元的电位设定为清洁电位的单元，也可以还包括离子化单元来进行清洁。

本发明的另一个方式是一种对流入的样品气体进行分析的气体分析装置的控制方法。气体分析装置具有：过滤器单元，其对样品气体进行过滤；检测器单元，其对过滤的结果进行检测；壳体，其收纳过滤器单元和检测器单元；以及控制单元，其对过滤器单元、检测器单元以及壳体的电位进行控制。控制方法包括以下步骤：控制单元将过滤器单元、检测器单元以及壳体的电位设定为清洁电位，该清洁电位为引入样品气体的供给源的工艺等离子体或由等离子体生成单元生成的等离子体来作为清洁用的等离子体的电位。

所述气体分析装置也可以包括等离子体生成单元，该方法也可以包括以下步骤：等离子体生成单元与设定为清洁电位的步骤并行地生成清洁用等离子体。设定为清洁电位的步骤也可以包括在样品气体的供给源生成工艺等离子体的定时设定为清洁电位的步骤。在气体分析装置具有将样品气体离子化的离子化单元的情况下设定为清洁电位的步骤也可以包括将离子化单元的电位设定为清洁电位的步骤。