[发明专利]光学构件及其制造方法在审
| 申请号： | 202080024421.1 | 申请日： | 2020-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN113646084A | 公开（公告）日： | 2021-11-12 |
| 发明（设计）人： | 渡边友启;加本贵则;嶋谷貴文;中川小百合;田所朋;山本明典;若村纱友里 | 申请（专利权）人： | 日本电产株式会社;日本电产三协株式会社 |
| 主分类号： | B01J35/02 | 分类号： | B01J35/02;B01J21/06;B01J27/18;B01J37/02;C03C17/25;G02B1/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 马淑香 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 构件 及其 制造 方法 | ||
1.一种光学构件，其特征在于，包括：
透光性构件；以及
功能膜，所述功能膜覆盖所述透光性构件，
所述功能膜含有：
光催化剂粒子，所述光催化剂粒子通过紫外线来活化；以及
特定钛氧化物，所述特定钛氧化物是磷酸二氧化钛或过氧化钛，
所述光催化剂粒子中的至少一部分构成光催化剂二次粒子。
2.如权利要求1所述的光学构件，其特征在于，
所述光催化剂粒子含有氧化钛。
3.如权利要求1或2所述的光学构件，其特征在于，
所述特定钛氧化物是磷酸二氧化钛。
4.如权利要求1至3中任一项所述的光学构件，其特征在于，
所述特定钛氧化物是非晶体。
5.如权利要求1至4中任一项所述的光学构件，其特征在于，
所述光催化剂粒子中的至少一部分构成凝集体，
所述凝集体的平均粒径为20nm以上200nm以下。
6.如权利要求1至5中任一项所述的光学构件，其特征在于，
所述功能膜还含有粘接剂。
7.如权利要求6所述的光学构件，其特征在于，
所述功能膜包括含有所述粘接剂的粘接剂层，
所述粘接剂层覆盖所述透光性构件，
所述光催化剂二次粒子中的至少一部分局部地埋入所述粘接剂层。
8.如权利要求1至7中任一项所述的光学构件，其特征在于，
所述功能膜包括含有所述特定钛氧化物的特定钛氧化物层，
所述光催化剂二次粒子中的至少一部分被所述特定钛氧化物层局部或完全覆盖。
9.如权利要求1至8中任一项所述的光学构件，其特征在于，
所述光催化剂二次粒子的平均粒径为10nm以上50nm以下。
10.一种光学构件的制造方法，其特征在于，
所述光学构件的制造方法包括在透光性构件上形成功能膜的膜形成工序，
所述功能膜含有：
光催化剂粒子，所述光催化剂粒子通过紫外线来活化；以及
特定钛氧化物，所述特定钛氧化物是磷酸二氧化钛或过氧化钛，
所述光催化剂粒子中的至少一部分构成光催化剂二次粒子。
11.如权利要求10所述的光学构件的制造方法，其特征在于，
所述膜形成工序包括：
第一涂布工序，在所述第一涂布工序中，将含有所述光催化剂粒子的第一涂布液涂布于所述透光性构件的表面；以及
第二涂布工序，在所述第二涂布工序中，在所述第一涂布工序之后，进一步将含有磷酸二氧化钛粒子或过氧化钛粒子的第二涂布液涂布于所述透光性构件的表面。
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