[发明专利]光学构件及其制造方法在审
申请号: | 202080024421.1 | 申请日: | 2020-02-20 |
公开(公告)号: | CN113646084A | 公开(公告)日: | 2021-11-12 |
发明(设计)人: | 渡边友启;加本贵则;嶋谷貴文;中川小百合;田所朋;山本明典;若村纱友里 | 申请(专利权)人: | 日本电产株式会社;日本电产三协株式会社 |
主分类号: | B01J35/02 | 分类号: | B01J35/02;B01J21/06;B01J27/18;B01J37/02;C03C17/25;G02B1/14 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 马淑香 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 构件 及其 制造 方法 | ||
光学构件包括透光性构件和覆盖所述透光性构件的功能膜。所述功能膜含有:通过紫外线来活化的光催化剂粒子;以及作为磷酸二氧化钛或过氧化钛的特定钛氧化物。所述光催化剂粒子中的至少一部分构成光催化剂二次粒子(4)。光学构件的制造方法包括在透光性构件上形成功能膜的膜形成工序,该功能膜含有通过紫外线来活化的光催化剂粒子和特定钛氧化物。所述特定钛氧化物是磷酸二氧化钛或过氧化钛。所述光催化剂粒子中的至少一部分构成光催化剂二次粒子。
技术领域
本发明涉及一种光学构件及其制造方法。
背景技术
在具有光催化剂功能的构件中,已知有一种在基材上形成有主要由具有光催化剂活性的粒子构成的层的构件(例如,专利文献1)。在粒子层中,分散配合有平均粒径小于0.01μm的微粒子。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本公开公报:专利特开平9-939号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
然而,专利文献1所记载的构件在用作光学构件的情况下,粒子层的耐磨损性不充分。
本发明鉴于上述技术问题而作,其目的在于提供一种光学构件,包括具有优异的光催化剂活性和耐磨损性的功能膜。
解决技术问题所采用的技术方案
本发明例示性的光学构件包括:透光性构件;以及功能膜,所述功能膜覆盖所述透光性构件。所述功能膜含有:光催化剂粒子,所述光催化剂粒子通过紫外线来活化;以及特定钛氧化物,所述特定钛氧化物是磷酸二氧化钛或过氧化钛。所述光催化剂粒子中的至少一部分构成光催化剂二次粒子。
本发明例示性的光学构件的制造方法包括在透光性构件上形成功能膜的膜形成工序。所述功能膜含有:光催化剂粒子,所述光催化剂粒子通过紫外线来活化;以及特定钛氧化物,所述特定钛氧化物是磷酸二氧化钛或过氧化钛。所述光催化剂粒子中的至少一部分构成光催化剂二次粒子。
发明效果
例示性的本发明能提供一种光学构件,包括具有优异的光催化剂活性和耐磨损性的功能膜。
附图说明
图1是本发明第一实施方式的光学构件的一例的示意图。
图2是图1的光学构件的变形例1的示意图。
图3是图1的光学构件的变形例2的示意图。
图4是表示图1的光学构件制造时的一工序的示意图。
图5是表示实施例1、实施例2和比较例1的光学构件的接触角的图表。
图6是表示实施例1和比较例1的光学构件的接触角的图表。
具体实施方式
以下适当参照附图,对本发明的实施方式进行说明。另外,对图中相同或相当的部分标注相同的附图标记,不再重复说明。
在本说明书中,粒子或凝集体的“平均粒径”是通过使用扫描型电子显微镜(SEM)观察而求得的。具体而言,从通过SEM图像观察到的测量对象(粒子或凝集体)中选择能确认其整体像的任意五十个测量对象。对于各测量对象,分别测量最大直径和最小直径,将其平均值作为各测量对象的粒径。然后,将五十个各自的测定对象的粒径的平均值作为“平均粒径”。另外,最大直径是穿过测量对象的几何中心且两端分别位于测量对象的外缘的线段中最长线段的长度。最小直径是穿过测量对象的几何中心且两端分别位于测量对象的外缘的线段中最短线段的长度。
在本说明书中,“厚度”是指平均厚度。“厚度”通过接触式膜厚测量器(例如Bruker公司生产的“DekTakXT-S”)来测量。
<第一实施方式:光学构件>
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