[发明专利]物体定位系统、诊断和校准方法、定位控制方法、光刻设备和器件制造方法在审

专利信息
申请号: 202080027579.4 申请日: 2020-03-10
公开(公告)号: CN113661448A 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: B·詹森;S·A·A·阿布德尔莫伊蒂;H·巴特勒;K·J·F·卢南;A·辛格;R·E·J·R·范德维尔登 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H02N2/06;G02B27/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 赵林琳;闫昊
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 物体 定位 系统 诊断 校准 方法 控制 光刻 设备 器件 制造
【说明书】:

发明涉及一种物体定位系统,包括:致动器系统;和测量系统,其中致动器系统包括由主要具有电致伸缩特性并且在没有电场的情况下基本没有净极化的材料制成的致动器,其中致动器系统被配置为向致动器施加电场,该电场包括偏置电场和叠加在偏置电场上的致动电场,所述致动电场的场强等于或小于偏置电场的场强,其中测量系统被配置为测量致动器的电特性,该电特性代表致动器的机械状态。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2019年4月10日提交的欧洲申请19168367.1和2019年8月8日提交的欧洲申请19190665.0的优先权,这些申请通过引用整体并入本文。

技术领域

本发明涉及一种物体定位系统、一种包括这种物体定位系统的物体以及一种包括这种物体定位系统的光刻设备。本发明还涉及相应的定位控制方法、诊断和校准方法以及设备制造方法。

背景技术

光刻设备是将期望图案施加到衬底上的机器,通常施加到衬底的目标部分上。光刻设备可用于例如制造集成电路(IC)。在这种情况下,可以使用图案形成装置,其或者称为掩模或掩模版,来生成要形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以转移到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或几个管芯)上。图案的转移通常通过成像到衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来实现。通常,单个衬底将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描仪,在步进器中通过将整个图案一次曝光到目标部分上来照射每个目标部分,在扫描仪中通过经过辐射束在给定方向(“扫描”方向)上扫描图案、同时平行或反平行于该方向同步扫描衬底,来照射每个目标部分的。还可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转移到衬底上。

在光刻设备中,物体或其部分、例如诸如镜面或其支撑面之类的表面需要被精确定位,以实现所需的系统性能。然而,对于一些应用,由于可用尺寸有限和/或系统复杂,不能实现单独的传感器或者不希望实现单独的传感器,因为缺点不大于优点。

在这种情况下,不可能进行反馈控制,并且控制是基于校准数据前馈完成的。然而,在设备的使用寿命期间在没有传感器的情况下进行系统诊断和进行重新校准是麻烦的,并且故障的早期检测或对故障或问题原因的进一步分析将耗费时间。此外,可实现的精度很差,因为可能会激发共振,并且振动的存在时间可能比预期的要长。

发明内容

希望提供一种可以在不引入单独的传感器的情况下更好地控制和/或分析的物体定位系统。

根据本发明的一个实施例,提供了一种物体定位系统,包括:

-致动器系统;和

-测量系统,

其中致动器系统包括致动器,所述致动器由主要具有电致伸缩特性并且在没有电场的情况下基本没有净极化的材料制成,

其中致动器系统被配置为向致动器施加电场,该电场包括偏置电场和叠加在偏置电场上的致动电场,所述致动电场的场强等于或小于偏置电场的场强,

其中测量系统被配置为测量致动器的电特性,该电特性代表致动器的机械状态。

根据本发明的另一个实施例,提供了一种用于物体定位的诊断或校准方法,该物体定位包括具有致动器的致动器系统,该致动器由主要具有电致伸缩特性并且在没有电场的情况下基本没有净极化的材料制成,所述方法包括:

a)向致动器施加偏置电场;

b)在施加偏置电场的同时测量致动器的电特性;以及

c)从测得的电特性确定致动器的机械状态。

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