[发明专利]化合物、产酸剂、组合物、固化物及图案以及固化物及图案的制造方法在审
申请号: | 202080030294.6 | 申请日: | 2020-09-08 |
公开(公告)号: | CN113727971A | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 松井依纯;中屋敷哲千;有吉智幸 | 申请(专利权)人: | 株式会社艾迪科 |
主分类号: | C07D209/14 | 分类号: | C07D209/14;C07D405/10;G03F7/039 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 张楠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化合物 产酸剂 组合 固化 图案 以及 制造 方法 | ||
本发明的目的在于提供产酸灵敏度优异、且可获得着色得以抑制的树脂组合物的化合物。本发明为下述通式(A)所表示的化合物。(式中,R11、R12、R14、R15、R16及R17分别独立地表示氢原子、碳原子数1~20的无取代或具有取代基的脂肪族烃基等,R13表示碳原子数1~20的无取代或具有取代基的脂肪族烃基等,R11、R12、R14、R15、R16及R17中的1个以上为上述通式(1)所表示的基团、或者上述R13为取代有上述通式(1)所表示的基团的芳基,R1表示碳原子数1~20的无取代或具有取代基的脂肪族烃基等,R2表示氢原子、碳原子数1~20的无取代或具有取代基的脂肪族烃基等。)
技术领域
本发明涉及适宜作为产酸剂而使用的化合物。
背景技术
产酸剂是通过光等能量射线照射或加热处理等而产生酸的物质。
在专利文献1及专利文献2中,作为产酸剂,发明了包含磺酸衍生物化合物的光产酸剂或热产酸剂。此外,在专利文献1及专利文献2中,记载了一种与负型抗蚀剂、正型抗蚀剂等一起使用产酸剂,其中,负型抗蚀剂利用由产酸剂产生的酸通过聚合或交联等化学键的形成而相对于显影液的溶解性减少,正型抗蚀剂利用酸的作用通过酯基或缩醛基的化学键的切断等而相对于显影液的溶解性增加。此外,作为具体的用途,记载了半导体、外涂剂、涂料、粘接剂、油墨用途等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2016-169173号公报
专利文献2:US2020183271
发明内容
然而,这些产酸剂有时酸产生的灵敏度低。
于是,本发明的课题在于提供产酸灵敏度优异的化合物。
本发明人们为了解决上述课题而进行了深入研究,结果发现:具有吲哚结构的肟磺酸酯化合物的产酸灵敏度优异,从而完成了本发明。
即,本发明为下述通式(A)所表示的化合物(以下,有时称为化合物A。)。
[化学式1]
(式中,R11、R12、R14、R15、R16及R17分别独立地表示氢原子、卤素原子、硝基、氰基、-OR20、-COR20、-OCOR20、-COOR20、-SR20、-SOR20、-SO2R20、-NR21R22、-NR21COR22、-CONR21R22、下述通式(1)所表示的基团、碳原子数1~20的无取代或具有取代基的脂肪族烃基、碳原子数6~20的无取代或具有取代基的含芳香族烃环基团、碳原子数2~20的无取代或具有取代基的含杂环基团、或者上述脂肪族烃基、上述含芳香族烃环基团或上述含杂环基团中的1个以上亚甲基被选自下述组I中的二价基团取代而得到的基团,
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