[发明专利]包括用于产生深度图的多孔径成像设备的设备在审

专利信息
申请号: 202080030799.2 申请日: 2020-03-24
公开(公告)号: CN113853543A 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 弗兰克·维佩曼;雅克·迪帕里 申请(专利权)人: 弗劳恩霍夫应用研究促进协会
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 潘剑颖
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 包括 用于 产生 深度 多孔 成像 设备
【权利要求书】:

1.一种设备,包括:

外壳,所述外壳具有两个相对定位的主侧(108A,108B),所述主侧(108A,108B)经由至少一个边缘侧(108C-108E)彼此连接;

多孔径成像设备(112),所述多孔径成像设备(112)布置在所述外壳(108)内部(126)并且包括:

图像传感器布置(12);

邻近布置的光学通道(16)的阵列(14),每一个光学通道(16)包括用于将全视场(26)的至少一个部分视场(24)投影到所述图像传感器布置(12)的图像传感器区域(28)上的光学器件(22),以及

用于偏转所述光学通道(26)的光路(102)的光束偏转装置(18),所述光束偏转装置(18)包括多个刻面(86),每一个光学通道(16)具有与该光学通道(16)相关联的刻面(86);

其中所述主侧(108A)之一包括具有至少一个通道区域(1141)的通道区域布置(114),所述通道区域布置(114)被设置为允许所述光路(102)通过;

其中相对于所述通道区域布置(114)且沿着轴向方向(x),所述光学通道(16)沿着所述光学通道的光路(102)在所述图像传感器布置(12)与所述光束偏转装置(18)之间的路线包括以下至少一个的通道特定相对位置:

所述图像传感器区域(28);

所述光学器件(22);

与所述光学通道相关联的刻面(86)的反射表面。

2.根据权利要求1所述的设备,其中与对所有通道通用的相对位置相比,所述通道区域布置(114)导致所述通道区域布置(114)沿所述轴向方向(x)的所需大小减小,这仍然能使所述光路(102)无阻碍地通过。

3.根据权利要求1或2所述的设备,其中与对所有通道通用的相对位置相比,所述通道特定相对位置导致所述光路(102)的射线光束(138)在所述通道区域布置(114)的区域内的投影的重叠增加,并且所述通道区域布置(114)的大小适于所述重叠的增加,所述投影是沿所述阵列的行延伸方向(z)投影。

4.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述通道特定相对位置包括以下中的至少一个:

所述光学器件(22)与所述相关联的刻面(86)的所述反射表面之间的距离(128);

所述光路(102)在位于所述图像传感器(12)与所述光束偏转装置(18)之间的区域中相对于与所述主侧(108A)平行的平面的倾角(φ);

所述图像传感器区域(28)与所述光学器件(22)之间的距离(88);

在位于所述图像传感器(12)与所述光束偏转装置(18)之间的区域内,所述图像传感器区域(28)、所述光学器件(22)和所述相关联的刻面(86)沿所述光路(102)的方向(x)的轴向位置;以及

在位于所述图像传感器(12)与所述光束偏转装置(18)之间的区域内,所述刻面(86)沿所述光路(102)的所述方向(x)的轴向位置。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述光学通道(16)的阵列(14)包括对至少两个光学通道(16)有效的共用基板(78),所述共用基板(78)支撑相应的光学通道(16)的光学器件(22)中的至少一部分,并且其中第一光学通道(16a)的第一刻面(86a)包括沿所述轴向方向(x)的第一轴向位置;并且其中第二光学通道(16b)的第二刻面(86b)包括沿所述轴向方向(x)的与所述第一轴向位置不同的第二轴向位置;

其中所述基板(78)垂直于所述轴向方向(x)布置,并且所述第一光学通道和所述第二光学通道(16a-16b)的所述光学器件(22)被形成为彼此不同且能够沿不同的轴向位置布置,以使各个通道(16a-16b)的光路适于所述光学器件(22)、所述相关联的刻面(86)和/或相应关联的图像传感器区域(28)之间的彼此不同的距离(88,128);和/或

其中所述基板(78)相对于垂直于所述轴向方向(x)的布置倾斜,以使各个通道(16)的光路(102)适于不同通道(16a-16b)的位于所述光学器件(22)、所述相关联的刻面(86)和/或相应关联的图像传感器区域(28)之间的彼此不同的距离(88,128)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于弗劳恩霍夫应用研究促进协会,未经弗劳恩霍夫应用研究促进协会许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080030799.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top