[发明专利]包括用于产生深度图的多孔径成像设备的设备在审
申请号: | 202080030799.2 | 申请日: | 2020-03-24 |
公开(公告)号: | CN113853543A | 公开(公告)日: | 2021-12-28 |
发明(设计)人: | 弗兰克·维佩曼;雅克·迪帕里 | 申请(专利权)人: | 弗劳恩霍夫应用研究促进协会 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 潘剑颖 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 用于 产生 深度 多孔 成像 设备 | ||
1.一种设备,包括:
外壳,所述外壳具有两个相对定位的主侧(108A,108B),所述主侧(108A,108B)经由至少一个边缘侧(108C-108E)彼此连接;
多孔径成像设备(112),所述多孔径成像设备(112)布置在所述外壳(108)内部(126)并且包括:
图像传感器布置(12);
邻近布置的光学通道(16)的阵列(14),每一个光学通道(16)包括用于将全视场(26)的至少一个部分视场(24)投影到所述图像传感器布置(12)的图像传感器区域(28)上的光学器件(22),以及
用于偏转所述光学通道(26)的光路(102)的光束偏转装置(18),所述光束偏转装置(18)包括多个刻面(86),每一个光学通道(16)具有与该光学通道(16)相关联的刻面(86);
其中所述主侧(108A)之一包括具有至少一个通道区域(1141)的通道区域布置(114),所述通道区域布置(114)被设置为允许所述光路(102)通过;
其中相对于所述通道区域布置(114)且沿着轴向方向(x),所述光学通道(16)沿着所述光学通道的光路(102)在所述图像传感器布置(12)与所述光束偏转装置(18)之间的路线包括以下至少一个的通道特定相对位置:
所述图像传感器区域(28);
所述光学器件(22);
与所述光学通道相关联的刻面(86)的反射表面。
2.根据权利要求1所述的设备,其中与对所有通道通用的相对位置相比,所述通道区域布置(114)导致所述通道区域布置(114)沿所述轴向方向(x)的所需大小减小,这仍然能使所述光路(102)无阻碍地通过。
3.根据权利要求1或2所述的设备,其中与对所有通道通用的相对位置相比,所述通道特定相对位置导致所述光路(102)的射线光束(138)在所述通道区域布置(114)的区域内的投影的重叠增加,并且所述通道区域布置(114)的大小适于所述重叠的增加,所述投影是沿所述阵列的行延伸方向(z)投影。
4.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述通道特定相对位置包括以下中的至少一个:
所述光学器件(22)与所述相关联的刻面(86)的所述反射表面之间的距离(128);
所述光路(102)在位于所述图像传感器(12)与所述光束偏转装置(18)之间的区域中相对于与所述主侧(108A)平行的平面的倾角(φ);
所述图像传感器区域(28)与所述光学器件(22)之间的距离(88);
在位于所述图像传感器(12)与所述光束偏转装置(18)之间的区域内,所述图像传感器区域(28)、所述光学器件(22)和所述相关联的刻面(86)沿所述光路(102)的方向(x)的轴向位置;以及
在位于所述图像传感器(12)与所述光束偏转装置(18)之间的区域内,所述刻面(86)沿所述光路(102)的所述方向(x)的轴向位置。
5.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述光学通道(16)的阵列(14)包括对至少两个光学通道(16)有效的共用基板(78),所述共用基板(78)支撑相应的光学通道(16)的光学器件(22)中的至少一部分,并且其中第一光学通道(16a)的第一刻面(86a)包括沿所述轴向方向(x)的第一轴向位置;并且其中第二光学通道(16b)的第二刻面(86b)包括沿所述轴向方向(x)的与所述第一轴向位置不同的第二轴向位置;
其中所述基板(78)垂直于所述轴向方向(x)布置,并且所述第一光学通道和所述第二光学通道(16a-16b)的所述光学器件(22)被形成为彼此不同且能够沿不同的轴向位置布置,以使各个通道(16a-16b)的光路适于所述光学器件(22)、所述相关联的刻面(86)和/或相应关联的图像传感器区域(28)之间的彼此不同的距离(88,128);和/或
其中所述基板(78)相对于垂直于所述轴向方向(x)的布置倾斜,以使各个通道(16)的光路(102)适于不同通道(16a-16b)的位于所述光学器件(22)、所述相关联的刻面(86)和/或相应关联的图像传感器区域(28)之间的彼此不同的距离(88,128)。
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