[发明专利]用于转移设置的对准过程

说明书

一种将第一衬底与第二衬底对准的方法包括：将具有至少第一对准标记的所述第一衬底定位成紧密接近于具有至少第二对准标记的所述第二衬底，测量所述第一衬底及所述第二衬底两者的所述第一对准标记与所述第二对准标记之间的对准值；及基于所述所测量对准值调整所述第一衬底及所述第二衬底的位置。

相关申请案的交叉参考

本申请案主张2019年11月5日提出申请的美国临时专利申请案第62/930,982号及2019年5月22日提出申请的美国临时专利申请案第62/851,189号的权益及优先权，上述申请案中的每一者均以全文引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及一种在第一衬底与第二衬底之间的对准过程。特定来说，本发明涉及一种结合衬底之间的光学对准进行的电对准过程。

通常，经常在平坦衬底上成批地制作许多微型装置，包含发光二极管(LED)、有机LED(OLED)、传感器、固态装置、集成电路、微机电系统(MEMS)及其它电子组件。为形成可操作的系统，需要将来自至少一个施体衬底的微型装置选择性地对准及接合到接收器衬底。可针对待对准晶片，采用包含光学对准在内的各种对准技术。

在大面积衬底上的对准的挑战是更复杂的，因为在小衬底中所使用的技术中的一些技术无法直接地转移到此些应用。

发明内容

本发明的目标是克服现有技术的缺点并替换或增强常规光学对准过程。

根据一个实施例，可提供一种用于将第一(或临时)衬底与第二衬底对准的电对准过程。所述方法可包括：将具有至少第一对准标记的第一衬底定位成紧密接近于具有至少第二对准标记的第二衬底，测量第一衬底及第二衬底两者的第一对准标记与第二对准标记之间的对准值；及基于所测量对准值调整第一衬底及第二衬底的位置。

在一个情形中，所述衬底可以是背板、中间衬底、施体衬底、掩模或者其它形式的衬底。在本发明中，举例来说，所述第一衬底可包括施体衬底且所述第二衬底可包括接收器衬底。

在一个情形中，所述施体衬底上的所述对准标记及所述接收器衬底上的所述对准标记促进对准值的测量。可调整所述两个衬底的所述位置以最大化、最小化或均衡每一对准标记的对准值。

在一个实施例中，所述对准标记可以是在靠近在一起的情形下形成电容的板。在此情形中，所述施体上的对准板与所述接收器衬底上的对准板之间的对准值(或电感)被最大化。在另一情形中，可移动任一衬底以最大化所述板之间的电容(或其它值)。

在另一实施例中，所述对准标记可以是陷获于一个衬底的表面上的电荷及另一个衬底的表面上的板。

在一些实施例中，所述对准标记可以是一个衬底的一个表面上的电信号及另一个衬底的表面上的接收器。

在又一实施例中，所述对准标记可以是一个衬底上的屏蔽板及另一个衬底上的接收器板。所述屏蔽板阻挡来自源的信号到达接收器衬底。所述屏蔽板用作所述衬底中的一者上的对准标记，阻挡在所述源与其它衬底上的收集器板之间。在此情形中，可最小化对准值以使两个衬底对准。

在另一情形中，在所述施体衬底与所述接收器衬底之间的对应对准标记的几个对准之间均衡所述值。

在一个实施例中，所述板可以是导电或电荷层。在另一实施例中，可存在在不同定向上形成对准标记的多个板。

在一个实施例中，可在一个衬底上存在多个(例如四个)板且可在另一个衬底上存在至少一个板。在一个情形中，通过移动任一衬底来均衡所述多个板及另一个衬底上的所述至少一个板的值(例如电容或电荷读数)。

在另一情形中，均衡多个对准标记(或单个对准标记的不同区段)之间的值。

在一个实施例中，电对准标记也可用作初始光学对准标记。