[发明专利]半导体器件检查方法及半导体器件检查装置在审
申请号: | 202080039909.1 | 申请日: | 2020-04-09 |
公开(公告)号: | CN113906543A | 公开(公告)日: | 2022-01-07 |
发明(设计)人: | 竹嶋智亲;樋口贵文;堀田和宏 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体器件 检查 方法 装置 | ||
1.一种半导体器件检查方法,其中,
具备:
根据来自包含有半导体器件中的多个驱动元件的第1点的光,取得基于来自多个驱动元件的信号的第1干扰波形的步骤;及
基于多个驱动元件的动作时序,自所述第1干扰波形对每一驱动元件分离波形信号的步骤。
2.如权利要求1所述的半导体器件检查方法,其中,
还具备:排列并显示分离后的所述波形信号、与参照用的半导体器件的波形信号或通过逻辑仿真产生的波形信号的步骤。
3.如权利要求2所述的半导体器件检查方法,其中,
还具备:比较分离后的所述波形信号、与参照用的半导体器件的波形信号或通过逻辑仿真产生的波形信号的步骤。
4.如权利要求3所述的半导体器件检查方法,其中,
还具备:基于分离后的所述波形信号、与通过逻辑仿真产生的波形信号的比较结果,进行所述半导体器件、与所述半导体器件的布局图像的位置对准的步骤。
5.如权利要求1~4中任一项所述的半导体器件检查方法,其中,
还具备:基于分离后的所述波形信号特定所述第1点内的各驱动元件的位置,且基于特定的各驱动元件的位置,进行所述半导体器件、与所述半导体器件的布局图像的位置对准的步骤。
6.如权利要求1~5中任一项所述的半导体器件检查方法,其中,
还具备:对所述第1干扰波形进行噪声去除滤波的步骤。
7.如权利要求1~6中任一项所述的半导体器件检查方法,其中,
还具备:根据来自区域与所述第1点的一部分重复并包含有多个驱动元件的第2点的光,取得基于来自多个驱动元件的信号的第2干扰波形的步骤;及
基于所述第1及第2干扰波形,对所述第1及第2点内的每一驱动元件分离波形信号的步骤。
8.如权利要求1~7中任一项所述的半导体器件检查方法,其中,
还具备:基于所述第1及第2干扰波形,再构成所述第1及第2点内的任意位置的波形信号的步骤。
9.如权利要求1~8中任一项所述的半导体器件检查方法,其中,
还具备:
对所述第1点照射光的步骤;及
检测作为相对于照射于所述第1点的光的反射光的来自所述第1点的光的步骤。
10.如权利要求1~8中任一项所述的半导体器件检查方法,其中,
还具备:检测作为来自所述第1点上的所述半导体器件的发光的来自所述第1点的光的步骤。
11.一种半导体器件检查装置,其中,
具备:
光检测器,其检测来自半导体器件的光;及
解析部,
所述解析部构成为执行:
根据所述光检测器所检测的光中、来自包含有所述半导体器件中的多个驱动元件的第1点的光,取得基于来自多个驱动元件的信号的第1干扰波形;及
基于多个驱动元件的动作时序,自所述第1干扰波形对每一驱动元件分离波形信号。
12.如权利要求11所述的半导体器件检查装置,其中,
还具备:显示部,其排列并显示分离后的所述波形信号、与参照用的半导体器件的波形信号或通过逻辑仿真产生的波形信号。
13.如权利要求12所述的半导体器件检查装置,其中,
所述解析部构成为还执行:比较分离后的所述波形信号、与参照用的半导体器件的波形信号或通过逻辑仿真产生的波形信号。
14.如权利要求13所述的半导体器件检查装置,其中,
所述解析部构成为还执行:基于分离后的所述波形信号、与通过逻辑仿真产生的波形信号的比较结果,进行所述半导体器件、与所述半导体器件的布局图像的位置对准。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浜松光子学株式会社,未经浜松光子学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080039909.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造