[发明专利]通过清洁衬底的原位工艺腔室夹具清洁在审
申请号: | 202080040628.8 | 申请日: | 2020-06-09 |
公开(公告)号: | CN113906549A | 公开(公告)日: | 2022-01-07 |
发明(设计)人: | M·阿扎里亚;G·别利;S·马克;Y·于齐耶尔;A·帕希玛 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/67;B08B6/00;B08B1/00;B08B13/00 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 刘丽楠 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 通过 清洁 衬底 原位 工艺 夹具 | ||
1.一种清洁组合件,其包括:
衬底,其中一或多个图案形成于所述衬底的底侧上,其中当所述衬底定位于夹具上时,所述一或多个图案内的一或多个结构经由静电吸引或机械捕集中的至少一者从所述夹具吸引一或多个颗粒。
2.根据权利要求1所述的清洁组合件,其中所述衬底包括陶瓷晶片。
3.根据权利要求1所述的清洁组合件,其中所述衬底塑形为半导体晶片。
4.根据权利要求1所述的清洁组合件,其中所述一或多个图案内的所述一或多个结构使用碳纳米管(CNT)形成。
5.根据权利要求1所述的清洁组合件,其中所述衬底经配置用于经由处置装置的操纵。
6.根据权利要求1所述的清洁组合件,其中所述衬底包含多个图案类型,其中每一图案类型经配置用于吸引具有不同大小的颗粒。
7.根据权利要求1所述的清洁组合件,其中所述静电吸引由范德华力引起。
8.根据权利要求1所述的清洁组合件,其进一步包括:
一或多个电池;及
导体元件,其附接到所述衬底的顶侧,其中所述一或多个电池电耦合到所述导体元件。
9.根据权利要求8所述的清洁组合件,其中所述夹具是导电的且连接到接地。
10.根据权利要求9所述的清洁组合件,其中所述一或多个电池经配置以在所述导体元件与所述夹具之间建立介于0.1kV与5kV之间的电场以增强带电颗粒从所述夹具的基于静电的吸取。
11.根据权利要求1所述的清洁组合件,其中所述衬底包含一或多个贮集器。
12.根据权利要求11所述的清洁组合件,其中所述一或多个贮集器经配置以载送一或多个化学反应物。
13.根据权利要求12所述的清洁组合件,其中所述衬底包含用于将所述一或多个化学反应物从所述一或多个贮集器释放到所述夹具上的一或多个阀。
14.根据权利要求13所述的清洁组合件,其中所述一或多个阀包括经配置以在所述衬底定位于所述夹具上时打开的一或多个机械阀。
15.根据权利要求12所述的清洁组合件,其中所述一或多个贮集器经配置以在暴露到热冲击之后释放一或多个化学反应器。
16.根据权利要求15所述的清洁组合件,其中所述一或多个贮集器包含可通过形状记忆合金致动器启动的一或多个阀,其中所述形状记忆合金致动器经配置以基于所述形状记忆合金致动器的温度改变打开所述一或多个阀。
17.根据权利要求1所述的清洁组合件,其中所述衬底可安装于清洁衬底柜中,其中所述衬底可经由处置装置从所述清洁衬底柜递送到工艺腔室。
18.一种系统,其包括:
清洁衬底柜,其中所述清洁衬底柜经配置以储存清洁衬底,其中一或多个图案形成于所述清洁衬底的底侧上,其中当所述清洁衬底定位于夹具上时,所述一或多个图案内的一或多个结构经由静电吸引或机械捕集中的至少一者从所述夹具吸引一或多个颗粒。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造