[发明专利]成膜装置

说明书

本发明提供一种成膜装置，其可形成抑制光学特性的恶化的平坦的膜。所述成膜装置是在工件10上形成膜的成膜装置，其包括：搬送部30，具有循环搬送工件10的旋转台31；成膜处理部40，具有包含构成膜的材料的靶42、及将被导入靶42与旋转台31之间的溅射气体等离子体化的等离子体产生器，利用等离子体对靶42进行溅射而在工件10上形成膜；以及离子照射部60，照射离子；搬送部30以工件10穿过成膜处理部40与离子照射部60的方式循环搬送工件10，离子照射部60对工件10上的形成途中的膜照射离子。

技术领域

本发明涉及一种成膜装置。

背景技术

在光学机器形成有光学膜，所述光学膜使规定的波长区域的光反射，使其他波长区域的光透过。作为光学机器，例如可列举：液晶投影机、影印机、红外线传感器的聚光镜等冷光镜。冷光镜形成有成为使可见光反射，使规定的波长区域的光透过的光学膜的层叠膜。作为形成此种层叠膜的方法，已知有利用溅射的方法，所述溅射使包含成膜材料的靶暴露于等离子体中，由此打出构成靶的粒子，并使所述粒子堆积于工件上。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2005-266538号公报

发明内容

发明所要解决的问题

此处，已知通过溅射所形成的层叠膜产生堆积的粒子稀疏的部分与稠密的部分，由此在膜的表面产生凹凸。将如所述那样在表面产生凹凸的膜层叠的成为光学膜的层叠膜存在于膜彼此的界面产生光的漫反射，透过率等光学特性恶化的情况。

本发明是为了解决如上所述的课题而形成的发明，其目的在于提供一种可形成抑制光学特性的恶化的平坦的膜的成膜装置。

解决问题的技术手段

本发明的成膜装置是在工件上形成膜的成膜装置，包括：腔室，可使内部变成真空；搬送部，设置于所述腔室内，具有在圆周的搬送路径上循环搬送所述工件的旋转台；成膜处理部，具有包含构成所述膜的材料的靶、及将被导入所述靶与所述旋转台之间的溅射气体等离子体化的等离子体产生器，利用等离子体对所述靶进行溅射而在所述工件上形成膜；膜处理部，具有朝所述腔室的内部空间突出且朝所述搬送路径开口的筒状体、以堵塞所述筒状体的开口的方式设置的窗构件、朝形成于所述旋转台与所述筒状体之间的处理空间导入第一工艺气体的第一工艺气体导入部、经由所述窗构件而使所述处理空间内产生电场的天线、及对所述天线施加高频电压的电源，将所述第一工艺气体等离子体化来使所述处理空间内产生感应耦合等离子体，而使所述膜进行化学反应；以及离子照射部，具有在一端设置有开口部且以所述开口部朝向所述搬送路径的方式安装于所述腔室的筒形电极、朝所述筒形电极的内部导入第二工艺气体的第二工艺气体导入部、及对所述筒形电极施加高频电压的电源，对所述膜照射将所述第二工艺气体等离子体化所生成的离子；所述搬送部以所述工件穿过所述成膜处理部、所述膜处理部、及所述离子照射部的方式循环搬送所述工件，所述离子照射部对所述工件上的形成途中的所述膜照射离子。

发明的效果

根据本发明，可获得能够形成抑制光学特性的恶化的平坦的膜的成膜装置。

附图说明

[图1]是示意性地表示实施方式的成膜装置的结构的透视平面图。

[图2]是图1的A-A剖面图。

[图3]是图1的B-B剖面图。

[图4]是利用实施方式的成膜装置的处理的流程图。

[图5]是表示利用实施方式的成膜装置的工件的处理过程的示意图。